极紫外线光刻机 - 百度百科
极紫外线光刻机（Extreme Ultra-violet，简称EUV光刻机）是以10~14纳米波长的极紫外光为光源的光刻设备，系生产大规模集成电路的核心设备，主要应用于14纳米及以下的先进制程芯片制造。该设备单价在3000万至5亿美元区间，2022年阿斯麦公司新款机型售价约4亿美元。该设备采用激光等离子体光源技术，通过高功率激光轰击锡...
euv和duv区别?一文读懂光刻技术的演进与对比分析
DUV系统采用透射式光学设计，主透镜组由高纯度熔融石英（SiO₂）制成，表面镀有氟化镁（MgF₂）增透膜。透镜组通过精密抛光实现亚纳米级面形精度，但相比EUV的反射镜，其制造难度显著降低。DUV系统允许使用传统光刻胶，而EUV需采用对13.5nm光子敏感的特殊光刻胶，这进一步增加了工艺复杂性。设备成本与产能的经济...
euv和duv区别?一文读懂技术演进与产业格局
EUV的尖端阵地：在智能手机SoC、高性能计算（HPC）芯片、AI加速器等对晶体管密度要求极高的领域，EUV已成为7纳米及以下制程的标配。台积电N3工艺通过EUV的多重曝光技术，实现了1.6纳米级别的金属间距；三星的GAA晶体管架构更是依赖EUV实现纳米片结构的精确成型。据Gartner预测，到2025年EUV在先进制程市场的渗透率将超...
DUV和EUV光刻机的区别在哪?--科普知识
EUV:极深紫外线(Extreme Ultraviolet Lithography) 一、DUV技术由日本和荷兰独立发展: ArF干法后期两大路径之争,ArF湿法胜于F2。2002年DUV技术在干法ArF后期演化成2条主要进化方向: 其一是用157nm的F2的准分子光源取代193nm的ArF光源。该方法较浸没式ArF更为保守,代表厂商是尼康和佳能。
日媒:如果中国迟迟造不出EUV,跟日本合作,是他们唯一可以突破的机会...
日媒与行业分析给出了这样一种观点:如果中国在EUV设备领域迟迟无法突破,而全球科技竞争又日益加剧,那么与日本企业合作——通过引进纳米压印技术作为一种补充路径——或许是当前唯一能够在高端芯片制造上快速实现突破的现实机会之一。 但从更长远看,中国的半导体产业要走自己的路,还需要在EUV、自主光刻机、材料与配套生态...
「EUV (极紫外光刻)」是一项什么样的技术? - 知乎
通常可以达到1.25。进一步提高分辨率则需要改变照明的波长。所以光刻技术的研究方向逐渐转向极紫外（EUV）...
极紫外光刻机(EUV)中,光源的不同技术方案详解
EUV光源的不同技术方案，包含：基于等离子体发光原理的：放电产生等离子体，激光产生等离子体 基于粒子加速器原理的：同步辐射光源，自由电子激光，稳态微聚束。1. 描述光的基础物理量是波长和频率，同种传播介质中，二者呈反比例关系，不同波长的光对应的概念如图 1所示，日常生活中肉眼可以识别的可见光，只占了波长...
EUV光刻体系中,真正的技术老大,不是ASML,是谁
在ASML的EUV光刻机中，蔡司的光学系统负责将极紫外光精确投射到硅片上，误差须控制在1纳米以内。 任何微小偏差都会导致芯片电路失真，良品率归零。ASML与蔡司的“生死绑定”ASML与蔡司的合作始于1983年，当时蔡司为飞利浦实验室生产光刻机光学部件。 2006年，双方关系进一步深化：ASML以10亿欧元收购蔡司半导体子公司24....
euv光刻机三大核心技术解析:极紫外光源、双工作台与多层光刻...
双工作台是euv光刻机的另一个核心技术。双工作台系统包括一个物镜工作台和一个掩膜工作台,它们协同工作,以实现高分辨率和高精度的光刻。物镜工作台负责将光刻胶图案投影到晶圆表面,而掩膜工作台则负责将掩膜上的图案转移到物镜工作台上。双工作台系统的关键在于实现高精度的运动控制和对准,以确保光刻过程中图案的一...
EUV光源:半导体制造的关键技术
在当今这个数字化时代,芯片已经成为了我们生活中不可或缺的一部分。从手机到电脑,再到各种智能设备,芯片无处不在。但是,你知道这些微小的芯片是如何制造出来的吗?今天,我们就来聊聊一个在芯片制造中起着关键作用的技术——EUV光源。 EUV光源,也就是极紫外光源,是一种能够...
EUV光刻,卡在了光刻胶上
EUV光刻胶大批量生产尚未完成。由比利时研究机构imec主办的ITF日本2025论坛于11月10日在东京君悦酒店举行。在上午11点开始的新闻发布会上宣布，现任首席执行官卢克·范登霍夫将于2026年4月1日成为董事长，帕特里克·范德纳米尔已被任命为他的继任者。范登霍夫自imec创立之初便给予支持，自2009年担任首席执行官以来...
俄罗斯:我们拥有EUV光刻机核心技术,会比中国更快造出光刻机!
俄罗斯一声吼：“EUV光刻机，我们有核心技术！”听得人一愣一愣的，这不一直是阿斯麦和美日韩的天下吗？到底谁能笑到最后，得看点真本事。在全球科技竞赛中，EUV光刻机被视为未来芯片制造的“圣杯”。中国与俄罗斯，两个非传统光刻机强国，正在这个领域展开激烈竞争。虽然俄罗斯自信满满，声称其技术储备有望领先中国...
中国EUV技术突破,美国急研新技术欲淘汰光刻机,老百姓咋看?
嘿，各位老百姓，今天咱们来聊聊科技圈的一件大事！你们听说了吗？中国最近在EUV技术上有了重大突破，这可把美国急坏了，他们正忙着研发新技术，想淘汰光刻机呢！这事儿听起来挺高大上的，但咱们老百姓也能懂，也能聊聊自己的看法。EUV技术是啥？为啥这么火？首先，咱们得弄清楚EUV技术是啥。EUV，就是极紫外...
极紫外光 - 百度百科
极紫外光（Extreme ultraviolet radiation，EUV/XUV）是波长介于121纳米至10纳米的电磁辐射，光子能量范围为10.25-124电子伏特。其自然产生源包括太阳日冕等高温天体，人工生成方式主要依赖同步辐射光源与等离子体技术，需在真空环境下传播以避免电离普通介质。当前核心应用为极紫外光刻技术，可直接实现1X纳米线宽制程并应用...
极紫外 - 百度百科
极紫外（extreme-ultraviolet，缩写XUV/EUV）是波长介于121纳米至10纳米的高能电磁辐射，属于光学与天文学领域术语。该波段光波因能电离普通物质而需在真空中传播，主要应用于光刻技术、太阳成像和物质结构探测等领域。极紫外光通过自由电子激光装置产生，需利用直线加速器将电子束加速至3亿电子伏特能量，结合种子激光调制...
遵循摩尔定律的机器:高数值孔径EUV光刻机
可实现更小晶体管的下一代技术是高数值孔径EUV光刻。 摩尔定律是指在给定面积的硅片上,晶体管的数量大约每两年翻一番,这种增益推动了计算技术的发展。在过去半个世纪里,我们将该定律视为一种类似进化或衰老的不可避免的自然过程。然而,现实却大不相同。要跟上...
EUV与DUV:光刻技术的双星闪耀,谁能照亮半导体未来的征途?
在半导体制造的浩瀚宇宙中，EUV（极紫外光刻）与DUV（深紫外光刻）如同两颗璀璨的星辰，各自散发着独特的光芒。它们不仅是光刻技术的两大支柱，更是推动半导体行业不断向前发展的核心动力。本文将深入探讨EUV与DUV的区别，揭示它们如何在纳米尺度上展开光影较量，以及谁将照亮半导体未来的征途。#光刻机# 一、光源：从...
禁售EUV光刻机,荷兰和我国贸易额超1000亿美元,主要出口什么?
禁售EUV光刻机，荷兰和我国贸易额超1000亿美元，主要出口什么？说起荷兰，很多人会想到光刻机巨头ASML，这家公司在光刻机市场占据了主导地位，任何想生产芯片的厂商都绕不开它。特别是最高端的EUV光刻机，目前只有ASML能制造。然而，EUV光刻机却对我国禁售，愿意出钱都不卖给我们。今年一季度给中国大陆出货了23台...
光刻系统 - 百度百科
光刻系统是一种用于半导体器件制造的精密科学仪器，是制备高性能光电子和微电子器件不可或缺的核心工艺设备。其技术发展历经紫外（UV）、深紫外（DUV）到极紫外（EUV）阶段，推动集成电路制程不断进步。当前最先进的EUV光刻系统已实现2nm制程芯片量产（截至2024年12月），广泛应用于微纳器件加工、芯片制造等领域。全球...