国内团队破解芯片光刻缺陷难题?研究者回应一财
去年，复旦大学高分子科学系、聚合物分子工程国家重点实验室魏大程团队则设计了一种功能型光刻胶，利用光刻技术在全画幅尺寸芯片上集成了2700万个有机晶体管并实现了互连，可助力实现特大规模集成度有机芯片制造，该团队表示“在积极寻求产业界合作，推动科研成果应用转化”。去年华中科技大学还与湖北九峰山实验室组成联合
首次!我国芯片领域取得新突破,北大团队破解光刻技术难题
光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为,指导开发出可显著减少...
从生命科学 “借工具”!中国团队跨界破解芯片光刻百年难题
在工业显影中，由于光刻胶本身疏水性强，这些团聚体会重新沉积到精密的电路图案上，造成如“桥连”之类的致命缺陷。研究团队通过缺陷表征发现，一块12英寸晶圆上的缺陷数量可高达6617个，严重制约了先进芯片的量产效率。04 四两拨千斤，简单方案解决复杂难题 基于对微观世界的深刻理解，研究团队提出了两项简洁高效且与...
10月25日北大亮剑!中国光刻胶硬核突破,彻底撕开芯片卡脖子缺口
北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队，正式公布光刻胶分子研究的产业化方案——成功破解先进制程光刻缺陷的“行业绝症”，相关成果更是登上了国际权威期刊《自然·通讯》。这个消息一出炉，就在科研圈和产业界激起千层浪，多少人想起曾经被国外技术“卡脖子”的憋屈，此刻忍不住热血沸腾：芯片制造的关键“命门”，...
中国芯片领域重大突破:北大团队打破芯片“黑匣子”!
随着芯片制程工艺不断向7纳米、5纳米及更先进节点迈进，每个纳米尺度上的微观缺陷都可能成为行业发展的绊脚石。而北京大学团队的这项突破，意义非凡！它不仅解决了当下芯片制造的一个具体难题，更开辟了一条通过原位微观观测解决液相过程黑匣子问题的新路径。就像彭海琳教授说的，这项技术未来有望在催化、合成乃至生命科学...
终于要来了!北大团队破解光刻胶奥秘,7纳米以下制程迎曙光
站在更宏观的视角，光刻胶微观结构的突破，本质上是中国半导体产业从"规模扩张"转向"质量突围"的缩影。当我们不再满足于成为全球最大的芯片消费市场，而是要在7纳米、5纳米制程上拥有自主话语权时，就必须在这些"看不见的战场"上建立优势。彭海琳团队的冷冻电镜图像，不仅看清了光刻胶分子的舞蹈，更照见了中国科技...
首次!我国芯片领域又有新突破!北大团队重磅突破!冷冻电镜破解光刻...
首次！我国芯片领域又有新突破！北大团队重磅突破！冷冻电镜破解光刻胶 “黑匣子”，芯片缺陷大降 99% 一、技术破壁：给光刻胶微观行为拍张 “三维快照”长期以来，7 纳米及以下先进制程的光刻良率被一个关键瓶颈制约 ——显影液中的光刻胶微观行为始终是 “黑匣子” 。传统扫描电子显微镜（SEM）无法原位观测液态...
破解全球难题!中国科学家看清光刻胶微观运动,7 纳米芯片良率飙升
” 这种困境成为全球先进制程良率提升的共性难题，我国某企业此前 7 纳米芯片良率仅 60%，其中 40% 的缺陷与光刻胶行为失控直接相关。团队的创新在于 “跨界借用” 尖端观测技术。他们首次将生命科学领域常用的冷冻电子断层扫描技术引入半导体研究：在晶圆完成标准光刻曝光后，迅速吸取含光刻胶聚合物的显影液，在毫秒...
首次突破!中国团队解密光刻胶微观行为 芯片缺陷降超 99%
优化显影工艺保留液膜带走聚合物。实测显示，12 英寸晶圆缺陷数骤降超 99%，完全满足量产需求。“这破解了先进光刻的核心难题。” 彭海琳指出，该技术还可用于催化、生命科学等领域。当前我国 90% 光刻胶依赖进口，此突破不仅助力国产光刻胶自主化，更让中国在半导体制造基础研究领域跻身全球前列。
突发特讯!我国首次破解芯片光刻“卡脖子”难题,成果登国际顶刊引...
彭海琳教授团队的这个成果，不只是解决了一个光刻难题，还提供了一种研究液体里分子行为的新工具。就像彭海琳说的，这项技术还能帮上蚀刻、湿法清洗等其他芯片制造环节，让整个生产流程的缺陷都变少。现在我国芯片产业正处在努力自主创新的阶段，这样的基础研究突破特别重要。它证明我们不用只跟着别人走，靠自己的创新也...
卡脖子难题终破!北大冷冻电镜“看穿”光刻胶黑匣子,7nm芯片良率飙升
六、结语：从“看见”到“掌控”，中国半导体的“微观竞争力”正在成型 当北大团队的论文在《自然-通讯》上线时，有国外同行评论：“中国科学家用生命科学的工具，解决了半导体产业的世纪难题。”这话只说对了一半——真正的突破，是我们终于从“被动应对缺陷”转向“主动设计良率”。光刻胶缺陷降99%，背后是
中国芯片技术再突破!北大团队“透...@石溪十景的动态
2025年10月24日,中国半导体领域迎来一项里程碑式突破!北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队联合清华大学、香港大学等机构,首次利用冷冻电子断层扫描技术(cryo-ET),在原子/分子尺度上“看透”了光刻胶分子在液态环境中的微观行为,成功破解了困扰芯片制造数十年的光刻缺陷难题。这一成果不仅登上国际顶级期刊《自然·...
解码芯片“黑匣子”:中国团队用“冷冻电镜”破解光刻胶微观世界
基于这些微观发现，研究团队提出了两项简洁高效且与现有半导体产线兼容的解决方案。"实验结果令人振奋：12英寸晶圆表面由光刻胶残留引起的图案缺陷被成功消除，缺陷数量骤降超过99%，且方案表现出极高的可靠性和重复性。"王宏伟说。这项研究运用的冷冻电子断层扫描技术，其应用潜力远不限于芯片与光刻领域。它为在原子/...
北大彭海琳团队突破芯片“黑匣子”:冷冻电镜解码光刻胶三维密码
彭海琳团队的成功不仅是技术突破，更提供了破局"卡脖子"难题的中国智慧：用基础研究的显微镜审视工程难题。正如团队在《自然·通讯》论文中强调的："理解液体中分子的真实行为，比盲目试错更重要。"这项研究正在产生链式反应。据悉，华为海思已与团队共建联合实验室，将冷冻电镜技术应用于3D芯片堆叠工艺开发。而在更广阔...
从“盲人摸象”到“明察秋毫”:北大跨界技术揭开芯片制造黑匣子...
当这两种策略结合应用后，12英寸晶圆上由光刻胶残留物导致的图案缺陷数量下降了超过99%。 这个数字意味着，长期困扰先进芯片制造的显影缺陷问题，终于找到了可行的解决路径。方法论的意义远大于技术本身 彭海琳团队的工作之所以重要，不仅是因为他们解决了一个具体的技术难题，更重要的是他们展示了一种全新的研发范式。
彭海琳团队突破芯片光刻技术黑匣子,国产良率提升99%
颠覆性发现接踵而至：传统理论认为溶解后的聚合物会均匀分散，但实际观测显示它们会像打结的耳机线般缠绕成团。这些纳米级的"线团"正是造成芯片电路短路的元凶，一块12英寸晶圆上竟能潜伏6600多个致命缺陷。从实验室到生产线的中国方案 基于这项基础研究的突破，团队开发出两项极具工业化前景的解决方案：通过引入定向...
A股中美大消息,工信部发声,我国芯片光刻技术迎来首次突破
谁能想到，芯片制造中最让人头疼的难题，竟然被一个看似不相关的技术给破解了。 北京大学的一个科研团队把通常用来研究生物标本的“冷冻电镜”技术，用在了光刻机上，结果直接让12英寸晶圆上的缺陷从6617个降到了0。这个数字背后，是中国芯片产业正在发生的静默革命。2025年10月25日，当中美两国经贸团队在马来西亚...
突破!北大团队破解光刻胶"黑匣子...@芳华雅叙的动态
在芯片制造的核心环节,光刻技术的每一步突破都直接关系到制程工艺的微缩极限。近日,北京大学彭海琳教授团队及合作者带来重大突破——首次借助冷冻电子断层扫描(cryo-electron tomography,cryo-ET)技术,在原位状态下解析出光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为,还据此开发出可大幅减少光刻缺陷的产业化...
芯片光刻胶重大突破:北大团队破解“微观黑匣子”,缺陷率降超99%
在光刻的“显影”步骤中,光刻胶分子在显影液中的运动状态长期以来如同“黑匣子”,工业界只能依赖反复试错优化工艺,这成为制约先进制程发展的关键瓶颈。 为破解这一难题,团队首次将冷冻电子断层扫描技术引入半导体领域:在晶圆完成标准光刻曝光后,迅速抽取含光刻胶聚合物的显影液,于毫秒内将其冷冻至玻璃态“定格”真实...