我国芯片领域取得新突破

首次!我国芯片领域取得新突破

我国芯片领域取得新突破光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为,指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然

突发特讯!中国“通告”全球:我国芯片领域取得“新突破”!引发美...

——北大团队突破7纳米芯片制程瓶颈！彭海琳教授利用冷冻电镜技术首次揭示光刻胶微观结构，为精准调控工艺提供分子级"全景照片"，不仅提升良率，更开创了用先进表征技术优化芯片制造的新方向——这是中国从跟跑到领跑的扎实一步。一、打开"黑匣子"：从试错到精准调控的飞跃在芯片制造领域，光刻胶在显影液中的行为长期...

首次!我国芯片领域取得新突破,手机性能将迎新升级

2025年初，中国芯片领域接连传来两项重磅进展。北京大学团队首次将冷冻电子断层扫描技术引入半导体光刻研究，以优于5纳米的分辨率“看清”了光刻胶在液相中的真实行为；清华大学则推出了全球首款亚埃米级快照光谱成像芯片“玉衡”，实现光谱与空间分辨率的双重飞跃。两项成果分别发表于《自然》与《自然·通讯》，标志着...

首次!中国芯片领域取得新突破,打破技术壁垒

首次!中国芯片领域取得新突破,打破技术壁垒小汪分享发布时间:1分钟前我是小汪一个无情的干货分享机器关注发表评论发表相关推荐自动播放加载中,请稍后... 设为首页© Baidu 使用百度前必读意见反馈京ICP证030173号京公网安备11000002000001号...

全球首款,成功问世!我国芯片研制获重大突破

记者15日从清华大学获悉，该校电子工程系方璐教授团队在智能光子领域取得重大突破，成功研制出全球首款亚埃米级快照光谱成像芯片“玉衡”，标志着我国智能光子技术在高精度成像测量领域迈上新台阶。相关研究成果在线发表于学术期刊《自然》。科研团队基于智能光子原理，创新提出可重构计算光学成像架构，将传统物理分光限制转化...

首次!我国芯片领域取得新突破,工艺优化不靠换设备

这是一次从“看不见”到“看得清”的跃迁。长久以来，光刻工艺占芯片制造一半时间与三分之一成本，而显影作为其中决定性一环，却始终依赖经验调参。此次突破不仅揭示了良率瓶颈的分子根源，更提供了可直接落地的解决方案。尤为关键的是，新方法无需更换现有设备，仅调整工艺参数即可实现，极大降低了产线导入门槛。然...

首次!我国芯片领域取得新突破,芯片制造商们又沸腾了

全球顶尖的芯片制造商们，在雕刻那些比头发丝还细上万倍的电路时，有个环节居然像在黑暗里摸索，他们一直看不清“颜料”是怎么干活的。这“颜料”就是光刻胶，而那个“黑暗”的环节叫显影。 2025年10月下旬，北京大学彭海琳教授团队在《自然·通讯》上发布了一项研究，他们用一种叫冷冻电子断层扫描的技术，第一次...

首次!我国芯片领域取得新突破,普通人别误读为手机芯片已赶超

它不会装进你的手机，但可能装进下一颗中国遥感卫星。公众的误读，源于对技术链条的简化想象。人们习惯将“芯片突破”等同于“整机突围”，却忽视了半导体产业是人类最复杂的系统工程之一。EUV光刻机由超10万个零件构成，涉及材料、光学、精密机械、控制软件等上百个子系统。中国在光源、物镜、工作台等环节虽已取得...

首次!我国芯片领域取得新突破,原来是这么的复杂

这波，不光科学家赢了，咱们每一个普通人，都在赢。为奋斗在一线的科研工作者致敬！您们辛苦了！希望每天都要看到重大突破！关于我国芯片领域，大家怎么看？免责声明：文章的时间、过程、图片均来自于网络，文章旨在传播正能量，本文如若真实性存在争议、事件版权或图片侵权问题，请及时联系作者，将予以删除。谢谢！

首次!中国芯片领域取得新突破近...@墨染情诗的动态

首次!中国芯片领域取得新突破近日,北京大学彭海琳教授团队联合清华大学、香港大学等机构,通过冷冻电子断层扫描技术(cryo-ET),首次在原位状态下捕捉到光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构与缠结行为,相关成果发表于《自然·通讯》。研究显示,光刻胶分子在显影液中并非均匀分散,而是倾向于聚集在液-气界面并形成“...

【我国芯片领域取得新突破:光刻...@晴天爱吃糖的动态

【我国芯片领域取得新突破:光刻胶微观行为“黑匣子”被破解】北京大学彭海琳教授团队及合作者在芯片光刻技术领域取得重大突破,相关成果刊发于《自然・通讯》。光刻是芯片制程微缩的核心技术,显影步骤中光刻胶在显影液的微观行为,直接影响电路精度与芯片良率。长期以来,该行为是“黑匣子”,工业界只能靠反复试错优化工艺,制

中国芯片取得突破性研究!全球首颗二维-硅基芯片成功研发,速度提升...

回顾芯片发展史，从第一个原型晶体管到第一款CPU花了约24年。而复旦大学团队通过将先进技术融入现有CMOS产线，大幅压缩了这一进程。这种加速产业化的发展模式，为新一代颠覆性器件缩短应用化周期提供了范例。在集成电路领域，中国原创技术并不多见。从“破晓”到“长缨”的命名，暗含了研究团队“希望助力中国...

芯片研究取得重要突破!祝贺我国高校科研团队

近期,我国高校科研团队分别研制出了高精度可扩展模拟矩阵计算芯片、亚埃米级光谱成像芯片,取得重大突破。北京大学高精度可扩展模拟矩阵计算芯片问世在数字计算主导计算机领域半个多世纪后,我国科学家在新型计算架构上取得重大突破——北京大学人工智能研究院孙仲团队主导,并联合集成电路学院研究团队,成功研制出基于阻变存储...

史诗级突破!中国芯片三领域同时登顶,改写全球产业格局

走出换道超车的特色之路。”目前，“玉衡” 已启动卫星搭载测试，北大模拟芯片进入通信领域验证阶段，“长缨” 则与国内晶圆厂达成量产合作。正如雷军评价小米 3nm 芯片时所言：“这只是开始，但足以见证中国智造的韧性。” 在这场全球芯片产业重构中，中国正以多点突破的态势，书写自主创新的新篇章。

首次,中国芯片领域取得新突破...@空智二师兄的动态

首次,中国芯片领域取得新突破!北大团队破解光刻胶"黑匣子" 7纳米以下芯片良率卡脖子难题,被中国科学家撕开一道口子!10月25日,北大彭海琳团队在《自然·通讯》发表重磅成果:首次用冷冻电镜技术"直播"光刻胶在显影液里的真实运动,拍出5纳米级三维"全景照",直接戳破行业多年靠"盲猜"优化的痛点。光刻胶堪称芯片"...

我国芯片领域,取得新突破|光刻机_新浪财经_新浪网

在光刻胶等材料领域取得新突破的同时,作为芯片制造核心装备的光刻机,其国产化进程同样备受关注。近些年中国光刻机国产化进程加快,产业取得一定发展,但与国际领先水平相比仍存在技术限制,尤其是高端光刻机技术受制于国外供应商,需要上下游同心协力攻坚。

突破瓶颈!我国成功研制新型芯片

我国成功研制新型芯片近日,北京大学科研团队传来突破性进展:他们研发出一种新型模拟计算芯片,以更贴近人类直觉的计算方式,显著提升了计算效率并大幅降低能耗,给人工智能等应用的进一步发展带来了新的想象空间。今年10月,北京大学人工智能研究院孙仲团队联合集成电路学院,成功研制出基于阻变存储器的高精度、可扩展模拟...

首次!中国芯片领域取得新突破改进光刻胶缺点:提升7nm及以下先进...

快科技10月26日消息,据国内媒体报道称,我国芯片领域取得新突破,具体来说是在光刻胶领域。北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为,指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《...