首款国产DUV光刻机或正测试,中芯国际大涨近9%刷新历史新高!半导体...
消息面上，根据外媒报道，中芯国际正在测试中国首款国产DUV光刻机，据了解该块机器采取的是浸没式技术，类似于阿斯麦采用的技术。此外，根据公告，中芯国际拟发行A股购买中芯北方49%少数股权，完成后其产能扩张及 local for local趋势将进一步加强。此外，当前国内先进制程工艺持续迭代，AI芯片有望
沉浸式突破!外媒报道中国测试首台国产DUV光刻机
据金融时报报道，中国正在测试首台国产的DUV28纳米技术光刻机，如果获得成功，这将是中国在国产光刻机领域的重大突破。在中美正在西班牙进行谈判的节骨眼上，中国在光刻机领域取得重大突破，无疑是我们手里多了一张极有分量的底牌。金融时报的报道是这样写的：中国领先的芯片制造商正在试用该国自主研发的首套先进芯片制...
最新进展!国产EUV光刻机或于今年三季度试产,何时量产呢? - 腾讯云...
另外,根据2024年5月17某院士公开做报告时透露:国产DUV光刻机已经获得突破,已完成整机组装,正在测试之中。巧合的是,当时作报告的时候也透露了:国产EUV光刻机也正在研发过程中。 也就是说,国产DUV光刻机还需要进一步的产线验证,套刻精度测试、工艺稳定性评估、量产工艺转移以及技术支持与服务,才能进入正式量产。 而...
新型国产光刻机问世,“正能量”谣言满天飞,结果仍然落后18年?
ASML在2006年推出的DUV光刻机XT，其技术规格至今仍然令人印象深刻：193nm的光源波长，配合先进的镜头系统和光刻胶技术，实现了57nm的分辨率和7nm的套刻精度。这一成就，即便在今天看来，也是难以望其项背的。而中国新推出的ArFi光刻机，虽然同样采用了193nm的光源波长，但在分辨率和套刻精度上，与DUV光刻机XT存在...
中国电子束光刻机横空出世,谁也没料到美国芯片管制霸权就此瓦解!
8月14日，全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”进入应用测试，消息传出后，业界声音响亮：出口管制失效了。这种论断并非空穴来风，其深层原因，是“羲之”精准命中了芯片研发中最顽固的痛点。这台设备不仅仅是技术参数的突破，它在更深层次上改变了游戏规则。掩膜之桎 芯片研发环节，一个长期存在的“老大难”问题便...
全球瞩目!中国首台DUV光刻机惊艳亮相,开启芯片制造新纪元
这次工信部发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》里，就提到了咱们国产的首台DUV光刻机。这可是个大新闻啊！咱们老百姓听了都激动得不行。这台光刻机啊，虽然分辨率只有65nm，但是这可是咱们国产光刻机历史上的一个里程碑啊！要知道，咱们以前可是连这样的光刻机都造不出来的。而且啊，...
首台国产光刻机诞生!打破西方60年垄断,荷兰巨头ASML坐不住了!
荷兰政府夹在中间很为难。ASML是荷兰的明星企业，中国又是个大市场，禁售意味着损失巨大的订单。可美国施加的压力太大了，不光是外交压力，还有情报部门的介入。2019年，白宫直接给荷兰政府递交了一份机密情报，内容不得而知，但效果立竿见影。最让人气愤的是，有一台价值1.5亿美元的EUV光刻机，中国企业已经付了...
中国DUV光刻机亮相,能造出三纳米芯片,性能不输ASML? - 知乎
2025年3月,国内突然传出一则重磅消息,这瞬间引爆了全球半导体行业:中国科学院宣布成功研发出基于固态激光技术的DUV(深紫外)光刻机,知情人士透露,该设备可支持3nm芯片的制造,且“性能不输ASML”。 这一消息迅速引发舆论两极分化——有人欢呼中国突破“卡脖子”技术,也有人质疑“3nm”的真实性与技术含金量。而在争议...
国产EUV光刻机2025年试生产:技术创新与市场影响
从当前的技术进展来看，虽然国产EUV光刻机尚未直接宣布上产线，但技术上的关键难题正逐个被突破。尽管技术难题被逐步攻克，国产EUV光刻机尚未实现量产，预计2026年或能见到正式的量产成果。因此，预计国产EUV光刻机目前正处于调试阶段，若调试进展顺利，今年三季度有望投入试产。至于正式量产的时间，预计还需一年左右，...
新型国产光刻机问世,“正能量”谣言满天飞,结果仍然落后18年?
就拿荷兰 ASML 的光刻机来说吧，在 2006 年的时候，ASML 推出了一款 DUV 光刻机 XT。这款光刻机的光源波长是 193nm，分辨率达到了 57nm，套刻精度则为 7nm 。嘿，您知道吗？中国新推出了ArFi光刻机。可这一数据啊，那技术水平可比中国新推出的ArFi光刻机要高不少呢！咱再来瞧瞧一个更实在的例子啊。就...
工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!
工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm! 新客户免费领取多重好礼>> 每经记者朱成祥 9月9日,工信微报微信公众号发文披露《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。其中,在电子专用设备一栏,氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。该资料显示,氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻
中国自研光刻机问世,荷兰这下...@扶艳蕙0A0的动态
中国自研光刻机问世,荷兰这下坐不住了!2025年8月,杭州城西科创大走廊传来重磅消息:全国首台商用电子束光刻机"羲之"开始测试,0.6纳米精度和8纳米线宽的性能直接对标ASML最先进的NXE:3400B光刻机。这台"中国刻刀"的诞生,不仅为量子芯片研发提供了关键装备,更打破了西方的技术封锁。当荷兰还在犹豫要不要执行美国禁...
国产EUV光刻机进展及未来展望
尽管ASML并未直接提及EUV光刻机的相关情况，但中国在制造DUV光刻机方面的实力已广为人知，无需过多赘述。据2024年5月17日某院士的公开报告披露，国产DUV光刻机已完成整机组装，并正进行测试。同时，该报告还透露，国产EUV光刻机的研发工作也在有序推进中。也就是说，国产DUV光刻机在完成整机组装后，还需经过一...
国产EUV 光刻机,将于 2025 年第三季度进入试产,采用更简单、更高效...
国产EUV 光刻机,将于 2025 年第三季度进入试产,采用更简单、更高效的设计方法。 数字浪淘 解码政治棋局,追踪经济风向,玩转数字浪淘!BTC_2050 图中显示的 ASML EUV 机器大小与一辆公共汽车相当 DUV 设备的使用极大地影响了中国最大的半导体公司中芯国际的进展。尽管后者此前曾声称已成功生产出 5nm 晶圆,但量产...
突发!中国突破美国制裁,国产光刻机成功问世!
国产光刻机成功啦！那它到底会给中国半导体产业带来何种影响呢？【国产光刻机技术参数及意义】国产的 DUV 光刻机出世啦，这可把科技界和芯片行业给激动坏啦。咱这自主研发的氟化氪、氩光刻机呀，分辨率能小于 65nm 呢，套刻精度还不高于 8nm 呢，那性能可真是强得让人直惊叹呐。目前呢，咱这还没法跟国外最...
突发!中国突破美国制裁,国产光刻机成功问世!
国产 DUV 光刻机横空出世，令科技界与芯片行业群情激昂。这由我国自研的氟化氪、氩光刻机，分辨率小于 65nm，套刻精度不超 8nm，性能卓越非凡。当下虽比不上国外最先进光刻设备，然而其已能满足我国多数工业、汽车及民用级芯片的生产需要。想象未来，在高铁、航天航空、智能电网和工业机器人等领域，国产芯片会被...
芯片自研再发力,中国首台国产电子束光刻机“羲之“问世:突破美荷...
因此，“羲之”更适合作为芯片原型开发、研究测试阶段的工具，为后续主要生产环节提供设计迭代与验证支持，而不是直接用于大批量生产。六、面向未来：国产光刻路线图逐步清晰 “羲之”作为首台国产电子束光刻机，展现了中国在芯片设备上的自主研发能力，并在战略上具有出口控制下的技术突破意义。接下来，研发团队将继续...
国产氟化氩光刻机公开,回击荷兰新禁令,相当于ASML20年前水平
看来这款光刻机与荷兰ASML目前最为先进的EUV光刻机产品还有着不小的差距。如果说真的要和荷兰方面的企业来进行对比，那么这款光刻机的性能与荷兰ASML的设备技术实际差距超过18年左右，相当于这家企业20年前的水平。就此来看，国产光刻机与荷兰光刻机之间的技术实力差距还是相当悬殊，尚且无法与全球最为顶尖的技术...
首台国产商业化电子束光刻机已在客户现场进入应用测试其精度比肩...
-, 视频播放量 832、弹幕量 1、点赞数 17、投硬币枚数 2、收藏人数 3、转发人数 1, 视频作者 福湖UP主, 作者简介 ,相关视频:0.6纳米精度!国产“羲之光刻机”出炉,量子芯片研发不再卡脖子#科技创新 #国产光刻机,电子束光刻简介,重大突破!潘建伟等中国学者构建国际最大
国内首台光刻机正式启用!美、荷“始料未及”:低估了中方的实力
但说实在的，ASML在生产EUV光刻机过程中，其中也是大量需要老美所提供的配件，甚至是技术。正因如此，在老美的干预下，ASML也是无法像我国提供EUV这样的高端光刻机，只能提供DUV这类应用在28nm芯片的低端设备上。就算如此，我国也绝对不向它们屈服，并选择“两条腿”走路。特别是开展了芯片发展的方针，一边是研发高端...