ASML 取得测量光刻设备中的图案形成装置的变形的设备和方法专利
金融界 2024 年 12 月 17 日消息，国家知识产权局信息显示，ASML 控股股份有限公司取得一项名为“测量光刻设备中的图案形成装置的变形的设备和方法”的专利，授权公告号 CN 112997117 B，申请日期为 2019 年 10 月。本文源自：金融界 作者：情报员
ASML 荷兰有限公司取得用于在光刻设备中使用的衬底支架专利
金融界 2025 年 4 月 1 日消息,国家知识产权局信息显示,ASML 荷兰有限公司取得一项名为“用于在光刻设备中使用的衬底支架”的专利,授权公告号 CN 111213093 B,申请日期为 2018 年 9 月。
荷兰ASML也没预料到!中国光刻机技术突破,西方封锁反成“助推器”
ASML的EUV光刻机依赖二氧化碳激光技术，由10万个零部件组成，90%依赖欧美供应商 中国选择固体激光技术：体积只有ASML设备的1/3，电光转换效率高出4倍，自主可控率超80% 面对西方重重封锁，中国科研人员没有硬碰硬，而是绕开障碍，找到一条属于自己的路。这种战略智慧，远比单纯的技术模仿更具价值。专利壁垒已被突破 A...
ASML叫停韩国工厂|ASML|三星|韩国_新浪新闻
来源:半导体产业纵横ASML第一季度订单“令人失望”。刚刚国家知识产权局信息显示,ASML 荷兰有限公司取得一项名为“用..._新浪网
3项核心技术接连突破,事关国产光刻机,ASML没料到这么快
ASML公司直言除了EUV光刻机之外，其余的设备都能正常出货。意思已经非常明显了，国外对最先进，最高端的设备一直保持戒备，所以在这样的情况下，任何的科技突破都必须通过自主研发的力量进行。国外无法提供的技术那就自己研发，在每一项技术节点投入部署，攻克核心技术难题。事实证明，努力是可行的，关于国产光刻机，3项...
ASML荷兰有限公司取得用于控制光刻工艺的方法及设备专利 |快报
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ASML取得光刻设备、量测系统、照射源及其方法专利|快报
ASML取得光刻设备、量测系统、照射源及其方法专利|快报 金融界 发布时间:2小时前一站式互联网投资理财平台,让投资更简单 关注 发表评论 发表 相关推荐 自动播放 加载中,请稍后... 设为首页© Baidu 使用百度前必读 意见反馈 京ICP证030173号 京公网安备11000002000001号...
ASML申请衬底支撑件和光刻设备专利,一种被配置为在光刻设备中支撑衬底...
金融界2025年6月21日消息,国家知识产权局信息显示,ASML荷兰有限公司申请一项名为“衬底支撑件和光刻设备”的专利,公开号CN120188104A,申请日期为2023年10月。专利摘要显示,一种被
ASML CEO承认中国光刻技术突...@弯黎R的动态
ASML CEO承认中国光刻技术突破:美西方打压反成“中国动力” 近日,荷兰阿斯麦(ASML)首席执行官温彼得在接受外媒采访时透露,中国已成功研发国产光刻设备,并坦言美国对华技术封锁正在产生“反效果”。这一表态不仅打破了ASML长期以来对中国市场的技术优越感,更折射出西方围堵政策与中国科技自主化之间的激烈博弈。 一、ASML...
华为专利助力国内光刻机产业迈出新步伐
近日，华为的一项新专利“反射镜、光刻装置及其控制方法”在国家知识产权局公布，该专利与EUV（极紫外）光刻机紧密相关，这无疑为国内光刻机技术的突破带来了新的希望。EUV光刻机技术背景 荷兰公司ASML在高端芯片光刻技术上占据垄断地位，其EUV光刻机已成为半导体产业大规模量产不可或缺的利器，能制造出7nm、5nm...
阿斯麦EUV光刻机:中美博弈中的科技与政治交响曲
面对美国和荷兰政府的出口限制，中国并未束手就擒。上海微电子已成功量产28nm光刻机，同时，清华、中科院在EUV光源领域也取得了关键性突破。阿斯麦首席执行官傅恪礼坦言，虽然中国在赶超ASML的道路上仍需努力，但这些挑战只会更加坚定他们的创新决心。◆ 全球供应链风险 ASML的EUV设备生产涉及全球5000家供应商，其供应链之复
光刻技术的发明者,一手培养出荷兰ASML,美国为何没有光刻机?
不过，众人皆知，世界上唯一一家能够量产EUV光刻机的企业是荷兰ASML，但却鲜有人知，光刻技术的发明者是美国。早在上个世纪五十年代中期，美国贝尔实验室便开始尝试将图像打印到硅片上。在1957年，美国陆军Diamond Ordnance Fuse实验室的Jay Lathrop和James Nall，获得了光刻技术的专利。短短1年后，Jay Last和Robert...
近5000项专利,ASML成了国产光刻机的“拦路虎” - 趣味科技秀
首先要加大人才投入，既然对方在中国设立研发中心，取得大量专利技术。那么我们也要加大人才的培养教育，投入更多的资源让人才崛起，参与技术研发，从而提升自研技术。解决人才的问题后，就需要足够的时间去攻克难题。当然，要想打破ASML的高端光刻机垄断不是短时间内就能完成的。10年不过是弹指一挥间，想要打造出国产高端...
半导体行业格局变动,中国企业技术突破引发全球关注
同时，上海微电子在2021年获得了EUV巨头阿斯麦的许可协议，为其独立研发相关设备提供了有力支持。若该专利获得批准，将进一步推动我国在半导体技术上的突破，打破国外技术垄断，对全球半导体行业格局产生深远影响。阿斯麦股价大幅下滑，源于中国上海微电子近期在EUV光刻机领域取得的多项专利突破。其中，一项关于光刻设备中气体...
国产EUV光刻机突破,2大新路线,绕开ASML封锁
更值得关注的是，这两种技术都不是实验室里的"PPT成果"。璞璘科技的设备已经交付客户，浙江大学的"羲之"也在测试阶段，说明咱们在新路径上已经迈出了从理论到落地的关键一步。光刻机之争，本质是技术路线之争。当ASML用EUV筑起专利高墙时，咱们选择纳米压印和电子束这两条"偏门"，虽然眼下效率不足，但未来通过...
中国光刻机大突破!绕开ASML EUV封锁,已有2个方案了
而光刻机，是最核心的芯片设备，特别是EUV光刻机，是制造7nm以下芯片的必备，而ASML的EUV光刻机不卖给我们。所以，我们必须研发出自己的EUV光刻机，但要研发自己的EUV很困难，是因为ASML已经用专利设置了壁垒，甚至还捆绑了一系列的核心供应链。在这样的情况之下，我们也可以换其它的路，绕开ASML对EUV专利、技术的...
ASML也没料想到!英国设计电子束光刻机,可制造5纳米芯片
这种垄断让ASML拥有巨大的议价能力。一台EUV光刻机价格高达1.5亿至2亿美元，交货周期长达1-2年，全球各大芯片制造商只能耐心等待并支付高昂的费用。更重要的是，由于地缘政治因素，ASML的设备还成为了西方国家技术封锁的重要工具。而南安普敦大学的这一突破意味着什么？电子束光刻技术走的是完全不同的技术路线——...
抢先一步!ASML第一台2nm光刻机,给了美国巨头,意味着什么?
总的来说，ASML研发出全球首台2纳米光刻机是半导体产业界的一项重大突破。通过引进这一先进设备，英特尔等企业将有望在芯片制造领域取得领先地位。这也给国产科技企业的发展敲响了警钟，我们与欧美发达国家之间在半导体领域还有很大的差距，国产要想不受制于人，那么我们就必须要加快自研的脚步才行，只有这样，我们才能...
ASML该着急了!华为突破EUV光刻机关键技术,中国芯赢了?
华为突破EUV光刻机关键技术 华为是中国知名的科技企业，在光刻机领域取得了一项重要的突破，成功研发出EUV光刻机的关键技术。这项技术专利名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”，属于光学领域，主要用于匀光调试。除了华为，国内还涌现出其他一些在EUV光刻机领域有突破的企业和科研机构，如华中科技大学推出的OPC软件、...
ASML荷兰有限公司取得量测方法和设备、计算机程序和光刻系统专利
ASML荷兰有限公司取得量测方法和设备、计算机程序和光刻系统专利 金融界2024年12月14日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司取得一项名为“量测方法和设备、计算机程序和光刻系统”的专利，授权公告号CN 113614644 B，申请日期为2020年2月。本文源自：金融界 作者：情报员 ...