欧美技术封锁被破!中科院正式宣布,国产光刻机“登月时刻”来临
从长春光机到清华大学、哈工大，再到如今的中科院，可以发现，我们在高端光刻机领域已经积累了越来越多的技术，这些技术最终都将在未来实现完全的爆发，而这对于西方来说却不是很好的消息，一方面，这意味着多年以来西方的封锁正在完全溃败，另一方面，也是最为重要的一点就是，当我国的国产高阶光刻机完全突破，那么...
ASML这次真慌了,我国突破DUV光源技术:剑指3nm制程
ASML的EUV光刻机（单台3亿美元）受《瓦森纳协定》限制无法对华出口，而中国全固态DUV通过多重曝光+混合光刻技术，理论上可在不依赖EUV的情况下实现3nm制程，直接威胁ASML在先进制程市场的垄断地位。相比EUV光刻机，传统DUV光刻机售价约4000万美元，而全固态方案因结构简化、材料成本降低，长期看有望将价格压缩至千...
美国封锁失败!国产EUV光刻机迎重大突破,阿斯麦尔总裁:最多3年_易车
实际上光刻机也分为很多种,比如上海微电子已经研制出了深紫外线DUV光刻机,能否制造芯片,但是像7纳米甚至3纳米这样的高精度芯片,需要波长更短的极紫外线EUV光刻机,而目前能生产EUV光刻机的,仅有荷兰阿斯麦尔公司。 1999年,阿斯麦尔开始研发 EUV 光刻机,得到当时几大半导体巨头的倾力相助,基本是西方最先进的技术...
中国自主研发光刻机大获成功!芯片领域将彻底翻身?
最近，东方大国成功研发出高精度光刻机，这可不是简单的“换个壳”，而是彻底摆脱对西方进口设备的依赖，标志着半导体产业的重大突破！你想知道这背后有哪些故事？继续往下看，带你深入了解这一技术革命的来龙去脉。进口光刻机问题与挑战 进口光刻机价格昂贵，技术保密，维修难度大，一旦出现问题往往需要厂家派人维...
官宣了!中方光刻机重大突破,已成全球唯一自主生产线国家
经过多年的不懈努力，中国在光刻机领域取得了令人瞩目的成就。2024年9月9日，中国工信部发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，就明确提到了“氟化氪光刻机”和“氟化氩光刻机”两种国产光刻机，标志着中国在光刻机领域取得了重大突破。回首中国光刻机的发展历程，可谓是充满艰辛和挑战...
无需ASML出货,国产光刻机迎来喜讯,果然被张召忠给说中了!
不过，从光刻机设备的国产化来看，未来很有可能就无需ASML向我们出货了。包含先进的EUV光刻系统，国内均传出了不少的喜讯。这下可真的被局座张召忠给说中了，“中国未来的芯片产品会满大街都是，连3nm、5nm的产品也一样。”事实上，早在2024年9月份，上海微电子就公开了一项极紫外辐射装置的技术专利。当时，...
光刻机“基石”技术成功突破!我国距摆脱“卡脖子”,还有多远?
而这次技术突破，也为我国的芯片制造业带来了新的希望。现在，我们不仅可以减少对外国高端光刻机的依赖，更重要的是，这标志着我国在全球半导体领域的竞争力有了质的飞跃。随着自主研发光刻机的交付使用，国内许多芯片制造企业开始逐步替换掉了之前依赖的进口设备，这对于整个行业的自主可控与安全生产，意义重大。这次...
中国光刻机技术大突破,5纳米芯片量产成功,美国阴谋终成泡影
近期，科技领域掀起轩然大波，焦点集中在中国在光刻机技术上取得的空前成就——成功实现5纳米芯片的量产。这一突破性进展，其精细度堪比头发丝直径的万分之一，无疑展现了中国的强大实力。或许大家对阿斯麦并不陌生，这家公司在光刻机领域深耕多年，拥有丰富的研发与生产经验。然而，美国政府为了遏制中国科技的崛起，竟...
骄傲!官宣中国光刻机有重大突破,全世界就我们生产线完整
中国在光刻机技术上取得了重大进展，国产光刻机即将实现大规模生产，现已成为全球唯一能够独立制造光刻机的国家！尽管光刻机技术在我国已经取得了重大突破，但我们仍然不能过于自满。首先，亟需解决的两个问题是：我国首台高端光刻机与现阶段市场上最先进的设备有何不同？以及何时能够真正进入量产阶段？历史性时刻，...
国产光刻机技术突破引发全球关注,美论坛反应热烈
在过去的科研历程中，中国曾主要依赖引进消化吸收再创新的策略，但如今，中国正逐步构建起以企业为主体、市场为导向、产学研深度融合的技术创新体系。这种转变为中国在更多高科技领域实现突破提供了强大的动力和支撑。二、全球视野：携手合作，共谋共赢 中国光刻机的研发成就，并非单打独斗的成果，而是全球科技协同创新的...
哈工大光刻机新突破,中国芯片绝地反击还是昙花一现?
中国在光刻机技术上的突破，不仅仅是硬件上的进步，更是整个产业链的一次士气大振。过去，我们一直受制于人，高价进口设备却还得看别人的脸色。现在，哈工大的团队用自己的努力撕开了技术封锁，这种精神让人感动。但也要冷静看待这件事，光刻机的研发不是一蹴而就的。虽然这次突破意义重大，但要真正实现国产化，...
禁令方向反了?国产光刻机获突破,套刻精度小于8nm
然而，中企、科研机构不忘初心，无数科学家为半导体制造设备领域而奋斗，励精图治数十年，终于让我们拥有了自己的国产光刻机。据悉，国产光刻机突破事件引发外媒关注，他们发现发现光刻机禁令简直就是笑话，非但没有阻止中国光刻机崛起，反而助中国光刻机更上一层楼，就连半导体制造水平落后的俄罗斯也有重大突破，光...
国产EUV光刻机“破冰”,中科院又立功了! - 腾讯云开发者社区-腾讯云
国产EUV光刻机再度实现破局,再度突破核心关键技术,我国中科院再次为中国芯事业立下不世功勋。当然,虽然进展顺利,我国也并不能就此掉以轻心,当下全球的竞争,特别是在半导体领域,尤为激烈。 期待着我国未来能够再接再厉,在EUV光刻机国产化领域能够拿到越来越多的拼图,期待着未来,能够完全补上我国在这一领域的大片空...
美荷赌输了,扩大对华半导体封锁,沉默4天后,中方宣布取得突破
首先，中国光刻机的突破将打破西方国家的技术垄断，为全球芯片市场注入新的活力。长期以来，西方国家凭借其在芯片制造设备上的技术优势，对其他国家实施技术封锁和市场垄断，严重阻碍了全球芯片产业的健康发展。中国光刻机的问世，将为那些希望摆脱西方控制、实现自主发展的国家提供新的选择，也将迫使西方国家重新评估其对...
哈工大立大功!ASML紧急宣布,外媒傻眼:怎么越围堵越强大?
面临竞争对手的快速追赶，ASML骤然宣布停止公开中国市场销售数据，此举被解读为某种策略性掩饰。国际媒体对此感到震惊不已，纷纷质疑中国如何在持续的外部压力下反而展现出更强的实力。国产DUV光刻机研发取得重大突破！中国电子产业的蓬勃发展，对芯片的需求持续攀升。然而，受制于光刻机制造技术的短板，我国不得不依赖大量...
中国光刻机技术取得重大突破
🎉 中国科学家在光电芯片制造领域取得了重大突破,这项技术有望取代传统的光刻机!📚 国际顶级学术期刊《自然》最近发表了这一研究成果,由中国南京大学的张勇、肖敏和祝世宁领衔的科研团队发明了一种新型的“非互易飞秒激光极化铁电畴”技术。🔬 这种技术通过将飞秒脉冲激光聚焦于材料“铌酸锂”的晶体内部,并控制激光...
华为EUV与新凯来技术破局,ASML垄断倒计时?附相关概念A股
当然，挑战依然存在。EUV 光刻机的量产需要突破 10 万 + 精密零部件的供应链整合，DUV 技术的工程化验证仍需时间。但正如当年光伏产业的崛起所证明的，只要坚持自主创新，中国完全有可能在半导体领域实现 "弯道超车"。当 ASML 还在为荷兰移民政策发愁时，中国半导体人正以每天 3000 万美元的研发投入，书写着属于...
国货当自强!国产光刻机打破核心技术垄断,但仍需努力
中国崛起是每一位中国人长久以来的梦想，尤其是发展国产芯片，要向创造属于我们自己的“中国芯”，就必须打破多年以来一直依赖的芯片进口，这样才能从源头上解决国家芯片上存在的问题。这几年在国家的重点支持下，半导体核心技术研发得到明显突破，其中以光刻机为主的离子注入机再次取得重大突破，打破了欧美大厂对于芯片...
光刻机重大突破!“新凯来”横空出世,两市最大核心供应商曝光+打破...
新莱应材:为新凯来提供RTP快速热处理、DPN扩散预清洗设备的关键零部件,掌握超高纯气体管路系统、真空腔体制造技术,产品已通过SEMI、ASME BPE等国际认证,国内市场占有率超过30%。 奥普光电:通过合资公司长光集智,为新凯来提供光刻机曝光系统的核心部件,技术精度达到纳米级,成功打破了ASML在光源物镜领域的垄断。