自主可控需求紧迫性提升,国产光刻胶实现多项突破
在政策助力之下，中国企业在国产光刻胶上实现多项突破。2024年，湖北某半导体材料公司自主研发的ArF/KrF光刻胶通过客户评估，获得两家晶圆厂订单（总额超100万元），实现从原材料到成品的全流程国产化。2025年恒坤新材将从科创板IPO募资的15亿元，投向安徽生产基地，KrF光刻胶已批量供应12英寸产线，覆盖7nm工艺，预计...
自主可控需求紧迫性提升,国产光刻胶实现多项突破-金融界
工信部的《新材料产业高质量发展行动计划》要求,重点突破光刻胶树脂、光敏剂等核心原料技术,对通过验证的企业给予税收减免及设备采购补贴。 在政策助力之下,中国企业在国产光刻胶上实现多项突破。2024年,湖北某半导体材料公司自主研发的ArF/KrF光刻胶通过客户评估,获得两家晶圆厂订单(总额超100万元),实现从原材...
率先量产!国产光刻胶第一龙头,7nm以上实现全覆盖!
这次技术革新的意义，可不光是国内能造出高级光刻胶这么简单。它的成功，对整个中国半导体产业来说，就像是终于在世界大赛中拿到了金牌，无声地告诉全世界：“我们也可以！”这种技术的突破，不仅提高了国内芯片制造的自给自足能力，更是给国内外市场投下了一枚震撼弹，让竞争对手不得不重新评估这个新晋的强敌。而这...
国产光刻胶,突破与进步
鼎龙股份表示，本次首获的高端晶圆光刻胶订单，是继公司在显示面板光刻胶和先进封装光刻胶依次导入客户端实现销售后的又一重大市场突破，将进一步提升公司在半导体及泛半导体三大光刻胶应用领域的整体创新能力，并拓宽客户服务能力，夯实公司在进口替代类创新材料平台型企业领域的竞争优势。据介绍，鼎龙股份已布局20余款...
国产光刻胶实现量产突破,众多公司积极布局!
晶瑞电材在互动平台上介绍，其子公司瑞红苏州拥有多种型号的半导体光刻胶，包括高端的KrF光刻胶和ArF光刻胶。此外，鼎龙股份也宣布成功开发出7款KrF光刻胶产品，其中1款可达到KrF极限分辨率。八亿时空的上海半导体项目已实现KrF光刻胶用PHS树脂的百公斤级别量产。飞凯材料则提供应用于半导体领域的i-line及KrF光刻...
高端国产光刻胶产业迎来新突破【转载】
近年来,光刻胶行业受到各级政府的高度重视和国家产业政策的重点支持。国家陆续出台了多项政策支持光刻胶行业发展,为光刻胶行业的发展提供了良好的外部环境。 近年光刻胶行业具体政策: 产业链壁垒较高 国内光刻胶需求增长 光刻胶产业链多环节亟待突破。从供给端来看...
光刻机与光刻胶迎来突破,国产化进程加速
在今年4月30日的一篇报道中，华懋科技参股的徐州博康董事长傅志伟透露，过去一年里，徐州博康在自主研发和产业化方面取得了显著进展，特别是在28纳米浸没式光刻胶的开发上实现了关键突破。目前，徐州博康已有7款ArF光刻胶在销售，其中一款已成功在12寸fab厂实现批量供应。此外，在高端的EUV光刻胶领域，国内厂商大多...
机构研选|光刻胶国产替代加速突破!半导体光刻胶龙头有望受益
源达信息-半导体材料行业研究系列一：国内加快成熟制程扩产，光刻胶国产替代加速突破-20240424 华鑫证券-电子行业周报：中国科研团队完成新型光刻胶技术验证，国产高端光刻胶前景可期-20240407 （投顾支持：于晓明，执业证书：A0680622030012）免责声明：以上内容仅供参考，不构成具体操作建议，据此操作盈亏自负、风险自担 ...
奇美化工创新光刻胶,突破显示行业技术壁垒
在传统ABS塑胶产品市场保持稳定的情况下，奇美化工选择进军光刻胶领域，提前布局显示行业的新赛道。经过长达二十多年的研发投，奇美化工成功打破国外技术垄断，在光刻胶生产方面取得了多项技术突破。2020年，公司进一步扩大了光刻胶生产区域，面积超过1万平方米。如今，这里生产的彩色光刻胶、黑色光刻胶等系列产品已...
光刻机外还有光刻胶!厦门这家“领头羊”,填补多项空白……
作为国家级专精特新企业，厦门恒坤是国内主要芯片企业的材料供应商，占据12寸晶圆制程用国产光刻胶主要市场份额，有效填补该领域的多项国内空白。在国内的光刻胶领域 厦门恒坤有着不可忽视的行业地位 它可是国内领先的半导体光刻胶 及超高纯前驱体材料供应商 厦门恒坤自研光刻胶 什么是光刻胶？光刻是晶圆制造过程中...
集群突围,珠海光刻胶的“破壁”之战
近年来,伴随着国内电子设备产业的飞速发展,一批国产光刻胶企业也随之诞生,并接连突破封锁。 在珠海,除了能动科技之外,珦盛新材料具备实现纳米级厚度的光刻材料涂层技术,正在推进显示面板用和芯片用光刻材料的研发和产业化;大东科技材料主营PCB用树脂干膜光刻胶,具有高产值、低耗能、没生产废水的绿色特质;容大感光的...
国产28nm光刻胶实现突破后,一个奇怪的现象出现了
中国半导体产业的突破与挑战 随着华为遭受到美国的打压，中国半导体产业开始意识到自主研发芯片的重要性。为了实现这一目标，国内的半导体公司投入了巨大的精力和资金，进行技术、材料和设备的研究。经过四年的发展，中国半导体产业取得了多项技术突破。1、光刻胶技术的突破 据悉，哈尔滨工业大学的团队在光刻机技术上实现...
国产光刻胶第一龙头 年预报16875% 现4目标124
在光刻胶领域，技术门槛高、研发投入大、周期长，是制约国产光刻胶发展的主要瓶颈。然而，“国产光刻胶第一龙头”企业凭借对技术创新的执着追求，成功打破了多项技术壁垒。特别是在ArF和ArFi光刻胶领域，该企业不仅实现了从实验室研发到量产的飞跃，更在7nm及以上制程中实现了全覆盖，为国产高端光刻胶的自主可控...
全面覆盖低端芯!国产光刻胶打破40年垄断,日媒:封锁了个寂寞
值得一提的是，在上述生物领域，国产成果不仅实现了核心技术的突破，还凭借技术和门槛上的优势，开始反攻海外市场，并一举拿下了全球超7成以上的原料市场。国产技术的崛起，让我们能够在国际市场上挺起胸膛，不用再看他人眼色行事。就拿中低端光刻胶来说，虽然只是中低端芯片，但却已经足够满足我国大部分芯片产能需求...
国产光刻机,从被“卡脖子”到突破重围
从2018年起，一场聚焦DUV光刻机的技术翻身仗正式打响 。中国科学家们立下目标，要在2023年前实现技术突破！他们采用多管齐下的创新路径，在光学系统设计、光刻胶材料研发、精密机械加工等方面全面发力 。终于，在2023年，成功研制出14nm DUV光刻机 。这一成果可太了不起了，意味着咱们中国在芯片制造装备领域不再...
重大突破!华科人攻克芯片光刻胶关键技术
合成光刻胶所需的原料和配方 助推我国芯片制造关键原材料 突破瓶颈 其研发的T150A光刻胶系列产品 已通过半导体工艺量产验证 实现了原材料全部国产 配方全自主设计 有望开创国内半导体光刻制造新局面 光刻胶是一种感光材料,用于芯片制造的光刻环节,工作原理类似于照相机的胶卷曝光。芯片制造时,会在晶圆上涂上光刻胶,...
概念追踪|14纳米先进工艺、光刻机等多项技术实现突破 国产化替代...
概念追踪｜14纳米先进工艺、光刻机等多项技术实现突破 国产化替代加速 A股哪些公司将受益？智通财经APP获悉，9月14日，中共上海市委外宣办举行“奋进新征程 建功新时代”党委专题系列新闻发布会首场新闻发布会。会上，上海市经信委主任吴金城透露，在集成电路领域，上海企业已经实现14纳米先进工艺规模量产，90纳米光刻...
突破| 高光灵敏度光刻胶在微纳增材制造打印速率方面实现突破
为了体现氧化锆杂化光刻胶高光灵敏度的优势,研究团队自主搭建了一台配备了转镜扫描系统的双光子光刻设备,并利用氧化锆杂化光刻胶实现了7.77 m/s的双光子光刻打印速率。在打印精度方面,研究团队通过优化双光子曝光-显影工艺,获得了线宽为38 nm...
中国如何突破光刻胶技术壁垒,实现科技强国目标
因此，中国要突破光刻胶技术壁垒，实现科技自强，尚需努力。日本在光刻胶领域的崛起并非一蹴而就。回顾历史，我们可以发现，几十年前，日本的光刻胶主要依赖美国的柯达公司。然而，他们并未止步于此，而是克服了诸多挑战。光刻胶曾一度被忽视，因为它利润微薄且属于小众原料，难以实现大规模生产。但日本从零开始，...