上海光机所EUV光刻技术获重大突破,中国芯片生产有望不再被美国...
值得一提的是,在本月的一次投资者电话会议上,ASML首席财务官戴厚杰(Roger Dassen)表示,中国进行的光刻机替代相关技术进展已有耳闻,中国确实有可能制造出EUV光源,但他相信,中国依然需要很多年才能造出一台先进EUV(极紫外光)光刻设备。 最新年报内容显示,2024年,ASML实现净销售额282.63亿欧元,同比增长2.55%,创下历史新高。净利
比原子弹还稀有,全世界仅2个国家掌握,制造光刻机太难了
先进光刻机制造的第一个难点就是机器的光源问题,在EUV光刻机问世以前,DUV光刻机是世界的主流,二者最大不同在与将DUV上193纳米的短波紫外线改为了13.5纳米的极紫外线,光刻机精度取得了跨越式发展。 EUV光刻机会使用二氧化碳激光不断轰击DUV上应用的金属锡原液,使其在激光下变为等离子状态,波长相比之前更短。这...
我们绕过EUV的技术落地了 #EUV #光刻机 #芯片 #电子束光刻机 国产...
我们绕过EUV的技术落地了 #EUV #光刻机 #芯片 #电子束光刻机 国产电子束光刻机"羲之"在杭州问世,精度达0.6纳米,可无掩模"手写"量子芯片电路,突破国际技术封锁,助力中国半导体研发提速。 - 瑞克老张有话说于20250815发布在抖音,已经收获了355.8万个喜欢,来抖音,记录美
ASML就EUV光刻机官宣,国产3nm芯或问世,张召忠有远见
所以此次EUV光刻机能够销往中国市场销售成为了一个大概率的事件。此前张召忠就曾经说过,美国限制只会让中国芯片完成自给自足。而如今,国产芯片已经正式向7纳米领域进军,EUV光刻机到货之后,那么我们即将为迈向更高端的芯片制造。 再加上中科院方面也已经研发出了八英寸石墨烯晶圆,在第三代半导体技术上,我们也已经占领了...
辟谣国产光刻机突破!清华EUV光刻机变“光刻厂”? 网传一片混淆...
光刻机的是否先进,要看光源是否是大功率并且非常稳定。大功率的EUV光源是EUV光刻机的核心基础。目前ASML公司采用的是高能脉冲激光轰击液态锡靶,形成等离子体然后产生波长13.5纳米的EUV光源,功率约250瓦。想要继续制造更先进的制程,就需要把EUV光源功率在稳态中持续增加,甚至达到千瓦量级。
没有EUV光刻机,国产芯片如何突破?_腾讯新闻
简单来说,就是我们可以通过chiplet来实现封锁突破,甚至是换道超车。 于行业发展规律而言,先进封装正在日益成为半导体竞争的胜负手,与先进制程一起成为先进芯片的必备工艺;于国产链而言,先进封装是实现弯道超车的必由之路。叠加起来,国内发展先进封装实则是更为紧迫的,当革命有了新的方向,同志们则更需努力。
外媒:EUV光刻机事件开始反转了 - 知乎
这意味着,哈工大此次取得的研发成果,将会从根本上弥补国内光刻机产业在EUV光源方面的短板,极大的推动国产EUV问世的步伐。 不可否认,被誉为人类科技智慧巅峰之作的EUV光刻机构造极其复杂,除了光源之外,还涉及到了双工件台系统和物镜等众多顶尖技术,即便是光刻领域的“霸主”ASML,也要依赖全球5000多家供应商。 可...
俄罗斯实现“洗衣机芯片“自由,首台0.35μm光刻机问世
他同时指出,到2026年将获得130nm的国产光刻机,下一步将是开发90nm光刻机,并继续向下迈进。生产将在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚的现有工厂进行。 旧洗衣机芯片都被迫拆来用,俄罗斯立志实现芯片自主 在美国等西方国家没有对半导体供应链...
不再被美国“卡脖子”中国突破技术封锁!国产光刻机迎来曙光
但已为国产EUV光刻机点亮了"希望之光"。这场科技突围战远未结束。正如ASML首席财务官所言，造出光源只是第一步，整合成完整的光刻机仍需时日。但中国科学家用实践证明：在半导体这个全球科技竞技场上，封锁从来挡不住创新的脚步。当瓦级功率的极紫外光划破技术封锁的阴霾，中国芯片产业正迎来破晓时分。
造芯片比原子弹难?国产EUV光刻机来了?美芯片竞赛只是白费劲
国产EUV光刻机真要来了 当然,毕竟我国的半导体产业起步晚,与美西方国家的半导体大国相比肯定存在一定的差距,我们要正视双方之间的差距。 全世界只有阿斯麦能够生产EUV(极紫外)光刻机,然而2024年末哈工大利用DPP技术攻克了13.5nm深紫外波段。 虽然距离真正的国产EUV光刻机还相差甚远,但中国四大协会的联合发声、中国
造原子弹和光刻机哪个更难?为啥荷兰有人说有图纸也造不出光刻机|euv|...
所以,基本上可以做实,上海微电子的确在做可以实现28纳米制程的国产DUV光刻机。只是是否通过验收,到底何时能交付,目前未知。 荷兰有人说图纸给我们也造不出光刻机来,这句话已经被否定了。 我国光刻机在精确度上与ASML的EUV光刻机仍有差距 我国的光刻机即将进入28nm,28nm能够达到什么水平呢?
中国光刻机制造有哪些最新动态? - 知乎
中国光刻机制造有哪些最新动态？近日国产光刻机产业链再获突破，上海传芯半导体公开了用于EUV光刻机的...
EUV为何一机难求 NIL技术能否成功替代光刻机
一说起芯片制造,就离不开光刻机。我们都知道光刻机很高端,很昂贵,很难制造,现在还知道它很难买到。那么,光刻机到底是个什么东西?有没有什么替代方案呢? EUV,为什么大家都想要? 芯片是通过在硅片上刻画电路,来实现特殊功能的。光刻机就是这种在硅片上刻画电路的工具。具体来说,刻画电路的过程是通过曝光来完成...
ASML作出“反向”决定,我们能否制裁?EUV光刻机含有中国技术_制造...
所以,要想实现芯片的国产化,打破芯片封锁,还需要中国科学家努力攻克技术难关,即便是现在的EUV光刻机的核心部件和技术被欧美企业牢牢把控,只要我们不妄自尊大,也不妄自菲薄,保持进取心,我们就能成功。
上海光机所EUV光刻技术获重大突破,中国芯片生产有望不再被美国...
荷兰ASML EUV光刻机样图(来源:ASML官网) 中国芯片极紫外(EUV)光刻光源技术获得重大突破,使用固体光源突破被美国“卡脖子”的局面。 4月29日消息,据环球时报旗下账号“哇喔·环球新科技”、观察者网等报道,中国科学院上海光学精密机械研究所(简称中国科学院上海光机所)林楠研究员带领团队,绕过二氧化碳激光,使用固体激...
半导体圈又热闹了!中国技术杀出来“硬刚”,连外媒都懵了!
更关键的是，蔗司不光自己掌握核心技术，还早早和ASML深度绑定。2016年11月，ASML拿出10亿欧元现金，直接收购了卡尔蔗司SMT子公司24.9%的股权，并且承诺在未来6年里追加约7.6亿欧元用于研发投入和资本性支出。这个合作关系意味着什么？意味着ASML每研发一代新的EUV光刻机，都必须等蔗司把配套的光学系统做出来，...
《Nature》刊登清华团队EUV光源新突破,有望解决国产光刻机难题
正如前文所说,光刻机承担着芯片制造中最为复杂和关键的制作工艺步骤,是高端芯片生产中不可或缺的关键设备之一,其中7nm以下的先进制程必须用到EUV光刻机。如果没有EUV光刻机,那个国产芯片制程只能止步7nm。 以中芯国际为例,目前中芯国际的14nm工艺芯片已经实现量产,12nm工艺也已相对成熟。但受限于没有EUV光刻机,...
俄正式对光刻机出手,华为或成受益者之一,外媒:ASML也做不到|euv_网易...
一、 西方把持的光刻机 一块芯片的诞生要经过复杂的工艺程序,需要多种制造机械的共同发力。其中,光刻机就是必不可少的一种芯片制造器械,在芯片的所有生产成本中,光刻机的工序的成本占比达到了30%! 随着时代的发展,光刻机已经从最初的g线(436nm)发展到目前所广泛使用的EUV光刻机。全球所有小于5nm的芯片工艺...
关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事...
很快,有人说:太好了。轻舟已过万重山,实锤了。中国终于有了自己的7nm光刻机,可以造出自己的7nm芯片,不怕再被卡脖子了。 可是,还有人说:别激动。只是误会。那个“8nm”不是重点,它上面那个“65nm”才是。国产芯片还只在65nm的水平,努努力最多也就能够到28nm,离7nm还远得很。