2025年度科技突破:中国EUV光刻机-从技术封锁到自主创新的逆袭之路
摘要:中国突破西方技术封锁,在深圳成功研制 EUV 光刻机原型机,实现极紫外光稳定产生的关键突破。该项目被喻为 “中国版曼哈顿计划”,由华为领衔协调产学研力量,通过 “逆向工程+ 自主创新” 双轮驱动,攻克光源、光学系统等核心技术难关。尽管仍面临精度优化、量产能力等挑战,但预计 2028-2030 年实现国产 EUV 芯
中国EUV光刻机攻破封锁,阿斯麦垄断岌岌可危,全球半导体格局巨变
就在光刻机取得进展的同时，在芯片制造的另一个关键环节——存储芯片上，位于武汉的长江存储，在被美国列入“实体清单”后，没有一蹶不振，反而在2022年被国际权威分析机构证实，成功量产了技术水平比肩国际巨头的232层闪存芯片。在芯片设计的“大脑”——EDA软件被断供后，以华大九天为首的一批中国公司迅速崛起，正...
“短板”正在被一块块补上!直击湾芯展:“中国芯”是怎么炼成的_央广...
《每日经济新闻》记者(简称每经记者)现场直击,随着多项关键技术的突破,“短板”正在被一块块补上,中国半导体产业全球跃升进入“关键时刻”。 湾芯展上还发布了一个振奋人心的消息:国产半导体设备厂商深圳新凯来工业机器有限公司(以下简称新凯来)旗下万里眼技术有限公司(以下简称万里眼)自主研发的新一代超高速实时示波器...
从0到1!中国EUV打破西方垄断,芯片白菜价时代将至?
这场突破不仅打破了EUV垄断，更证明了"封锁越严，创新越猛"这个道理。外部通道被堵死，我们反而搭建起了更稳固的技术根基。未来3到5年虽然还有挑战，但体系已成、人才集结，中国在芯片核心设备领域已经从"被动防守"转向"主动破局"。等到国产EUV真正量产那天，芯片变成白菜价，整个产业牛了，这才叫真正的众生平等。美...
外媒:中国首台EUV光刻机已制造完成,速度让西方惊叹! - 知乎
外媒疯传中国已经造出第一台EUV光刻机原型机了! 据路透社报道,在深圳的一家高度戒备的实验室里,中国制造出一台能够生产最尖端芯片的EUV光刻机原型机。 这台设备在2025年初就完成了,几乎占据了整个工厂车间,目…
光刻机变“废铁”?中国突破颠覆全球芯片格局
上海微电子的28纳米浸没式DUV光刻机交付，国产化率超70%，良率达95%，已向中芯国际和华虹交付15台。其EUV光刻机虽仍在预研阶段，但DUV已实现85%自主可控。国家大基金三期重点投入DUV国产化，2025年目标核心部件50%自给。中芯国际7纳米工艺良率突破，N+2工艺应用于华为麒麟9000s芯片，2025年完成5纳米开发，月...
中国EUV光刻机突破!13.5纳米极紫外光背后的技术长征与全球变局
欧洲技术保护升级：德国通过《关键技术保护法》，将光刻机核心部件纳入出口管制 ASML战略调整：加速推出每瓦特性能提升30%的高NA EUV机型，构筑新壁垒 美国政策转向：商务部考虑扩大DUV设备限售范围，但遭英特尔等企业强烈反对 《经济学人》在最新封面报道中警告："当中国用全国之力追赶时，西方技术封锁正变成自主创新的...
中国国产EUV光刻机进展:突破...@四季赏清荷的动态
据路透社报道,今年初,深圳的一家科研团队成功打造出一台EUV光刻机原型,虽然还不能生产芯片,但这是技术上的突破。外界普遍认为,这是中国半导体自主创新的重要一步,甚至被比作“曼哈顿”计划的现代版。 我觉得,这次中国在光刻机技术上的突破,令人振奋又充满希望。过去几年,我们一直受制于西方的技术封锁,靠进口、...
...下一个5年的时间,去追赶与国外企业30年的技术差距_芯片_ai_制造
荷兰的ASML,掌控着全球100%的EUV光刻机供应。这种先进的制造设备,ASML花费了大约三十余年的时间才研发完成投入使用,这种设备对于生产先进芯片来说至关重要。#EUV光刻机 一台EUV设备的售价在3亿美元以上,其中包含了发射极紫外光源的最强激光器、德国蔡司制造的全球最平坦的反射镜,这已经达到了人类在精密设备领域所能达...
从湾芯展看“中国芯”,日行跬步终至千里_央广网
虽然没有展出光刻机,新凯来还是给观众带来了巨大的惊喜:子公司万里眼技术有限公司发布了90GHz超高速实时示波器,这一成果标志着我国在高端电子测量仪器领域实现关键突破,打破了国外长期技术封锁。据在场者描述,其20分钟的发布收获多次掌声。 600余家企业齐聚,数万观众入场参观,数百万投资者在研究展品背后的市场价值。无论...
阿斯麦慌了!中国光刻机打破封锁,2028量产将改写全球科技格局?
为什么让整个西方世界如此紧张？这里先给大家划个重点：他们口中的可不是普通的 DUV 光刻机，而是被称为芯片制造 “皇冠上明珠” 的 EUV 极紫外线光刻机；更关键的是，他们把中国搞 EUV 的这个项目，直接定义成了 “曼哈顿计划” 级别的存在。稍微了解点历史的朋友都知道，曼哈顿计划是当年盟军为了研制原子弹启动的
封锁三年拦不住!中国造出EUV光刻机,美国政客开始拍桌子怒吼:我们...
三年封锁之下,中国竟悄然突破技术壁垒,自主研发出极紫外(EUV)光刻机。消息如同一颗重磅炸弹,瞬间引爆华盛顿的政治圈。与反思自身战略缺失不同,美国政客们的第一反应是震怒与质疑,一场激烈的“甩锅”大战由此拉开帷幕,而首当其冲的,竟是美国本土芯片巨头英特尔。
网传中国秘密组装出首台 EUV 光刻系统原型机,通过逆向工程 ASML...
这是全文最核心的逻辑跳跃。原型机存在 ↓ 已能产生EUV光 ↓ ⇒ “中国芯片曼哈顿计划取得重大突破”...
蔡正元:中国EUV光刻机几年搞定-爱奇艺
蔡正元:中国EUV光刻机几年搞定,西方30年才搞出来,ASML脸肿了发布时间: 2025/12/24 视频详情 蔡正元:中国EUV光刻机几年搞定,西方30年才搞出来,ASML脸肿了 蔡正元:中国EUV光刻机几年搞定,西方30年才搞出来,ASML脸肿了。上传者 台湾名嘴说教育热播榜 最受欢迎的教育内容 1 👑 ▶ 不白吃之动物界的显眼包...
中国首台EUV光刻机突破封锁!13.5纳米极紫外光背后的技术突围与挑战
国内能操作EUV的工艺工程师不足百人，核心部件仍依赖进口，2030年前商用希望渺茫。然而，DUV光刻机的成熟和第三代半导体的突破，正为中国构建"成熟制程安全岛"。在这场芯片攻坚战中，我们如何从追赶到超越？本期对话半导体专家陈宇，揭秘光刻机突围的艰辛与希望。Hello大家好，我是主持人凌薇。欢迎收听我们的播客，...
欧美技术封锁被破!中科院正式宣布,国产光刻机“登月时刻”来了
光刻机，芯片制造的“宇宙级难度”心脏。其核心光源系统，如同用一支笔在米粒上刻出《红楼梦》——而欧美用氟化氩准分子激光技术，垄断了这支“笔”的专利长达30年。 更致命的是，这项技术绑定氩、氟等战略资源进口，西方随时可借“断气”扼住中国芯片咽喉。 残酷现实：华为能设计出5G芯片，却因光刻机受制...
上海光机所EUV光刻技术获重大突破,中国芯片生产有望不再被美国...
上述报道称,该技术有望突破中国自主生产芯片的阻碍。 据悉,EUV光刻机中最核心的分系统是激光等离子体(LPP)EUV光源,主要关注能量转换效率(CE)。二氧化碳激光器激发的Sn等离子体 CE大于5%,是ASML光刻机的驱动光源,但此前这类光源由美国Cymer制造,在世界范围内处于垄断地位。
重压之下中国自研光刻机核心技术获重大突破!-AET-电子技术应用
近年来在西方技术封锁下,先进半导体关键制造设备EUV光刻机被限制出口至中国大陆。而面对西方的不断打压,我国科研人员潜心研发,终于成功研制出EUV重要部件——光源工程化样机,为我国突破“卡脖子”技术做出重大贡献。 哈工大、长春光机所攻破EUV光刻机三大核心技术 ...
比“缺芯”还严重!90%市场被美...@锤叔军科的动态
想买贵得离谱,想造却找不到路,如何突破这个技术死局? 在当今全球科技竞争的棋盘上,有一种困境比众所周知的“芯片短缺”更为深刻和根本——那就是对高端精密仪器,特别是半导体制造皇冠上的明珠——极紫外光刻机的极端依赖与能力缺失。 这种困境远不止于价格高昂或供货紧张。它直指一个现代工业强国的核心命脉:创新...