180吨巨物落地!中国的“曼哈顿计划”——EUV原型机曝光,2030年...
近些天一条消息网络上炸锅了：路透社曝深圳成功研制EUV光刻机原型机！该180吨巨物由前ASML工程师参与打造，依赖逆向工程与特殊渠道突破部件封锁。本文通过对比ASML技术参数发现，国产光学系统实现替代但核心瓶颈仍存，最后展望了2028-2030年量产节点。国纳科技匠认为，能否改写全球芯片格局，关键在于产业链自主可控的攻坚进度
中国据报已成功打造出EUV原型机 目前正 - 多人运动圈 - 踩蘑菇社区
(深圳路透电)据消息人士透露,中国科学家今年初在深圳一座高度保密的实验室,打造出一台极紫外光刻机(EUV)的原型机,目前正在测试阶段。这项被形容为中国的“曼哈顿计划”,目标是要让中国最终能够在完全自主研发的设备上制造先进晶片。 路透社星期四(12月18日)引述两名知情人士的消息报道,称这台原型机由荷兰半导体巨头...
中国首台EUV光刻机已在深圳制造完成,速度远超西方预期 - 哔哩哔哩
2.EUV技术的突破 在此之前,荷兰公司ASML是全球唯一有能力生产EUV光刻机的企业。这类机器是制造用于AI(如英伟达GPU)、智能手机和尖端武器的先进制程芯片的必需设备。 里程碑:中国的原型机已投入运行,并成功产生了极紫外光,这是该技术中最难跨越的障碍。 现状:虽然光源已经研制成功,但该机器尚未产出可工作的芯片。
好消息!龙芯中科研发出国内第一台EUV光刻机,外媒:始料未及
芯片集成电路目前来说，是全球信息化革命、智能化革命的最大基础设施。光刻机则是芯片制造过程中的关键设备。最初芯片产品的应用领域，都是国防产业、航天产业。对于光刻机这种军民两用技术，美国等西方国家，通过“巴黎统筹委员会”，一直在封锁禁运中国。我国很长时间，也是一直自主研发国产光刻机。在1991年，我国...
国产EUV 原型机制造完成!2028年有望量产3纳米芯片,A股四大产业链...
国产半导体设备迎来 “历史性突破”！据最新报道，国产 EUV 光刻机已成功完成原型机制造，标志着中国在这项被 ASML 垄断十余年的 “半导体皇冠技术” 领域，正式从实验室研发迈入工程化验证阶段。更令人振奋的是，按照技术推进节奏，预计 2028 年将实现 3 纳米及以下先进制程芯片的量产 —— 这意味着中国芯片制造 ...
国产euv光刻机研发成功,打破技术垄断 - 百度文库
国产euv光刻机研发成功,打破技术垄断 国产EUV光刻机成功研发，在光刻分辨率上达到了极高水准，如可实现22纳米甚至更小的制程工艺，这打破了国外长期在高端光刻技术领域的分辨率限制垄断。从光源技术来看，国产EUV光刻机研发出的新型极紫外光源，其输出功率稳定性偏差控制在±0.1%以内，远超国外同类产品早期水平，成功...
中国自主造光刻机,突破美欧封锁,速度快得让人惊讶
而国产光刻机的占比却在蹭蹭上涨 有人还说中国“逆向工程”，但事实是：咱们的光学系统、控制软件，都是自主研发 专利申请数量在国际上都排得挺靠前 这条路还远着，咱们刚刚突破了DUV光刻机的门槛 下一步就是极紫外线（EUV）光刻机 这个玩意儿用13.5纳米的光，能造出7纳米以下的尖端芯片 技术难度比DUV还高...
重压之下中国自研光刻机核心技术获重大突破!-AET-电子技术应用
近日,我国EUV光刻机研发取得重大突破。 近年来在西方技术封锁下,先进半导体关键制造设备EUV光刻机被限制出口至中国大陆。而面对西方的不断打压,我国科研人员潜心研发,终于成功研制出EUV重要部件——光源工程化样机,为我国突破“卡脖子”技术做出重大贡献。
中国成功研发国产光刻机,打破美国制裁壁垒!
这次亮相的设备，制程技术已达到了小于等于8纳米，尽管与ASML最尖端的EUV光刻机还有差距，却不可忽视，我们是在重重限制的情况下开辟出了一条独立之路。这台光刻机的意义非凡，它象征着我们在成熟制程芯片产业中，终于掌握了完全自主的能力。千万不要小看成熟制程芯片，它可是我们日常生活中手机、电脑、汽车、家电等...
关心:如何看待路透社的“中国版曼哈顿工程”?
路透社近日发布一篇关于所谓中国“曼哈顿工程”、EUV光刻机与半导体突围的报道,看起来信息量极大,细节密集,人物、时间、技术路径一应俱全,读完之后很容易给人一种“证据确凿、真相浮出水面”的感觉。但如果稍微拉开一点距离,就会发现,这恰恰是西方主流媒体最常见、也最成熟的一种叙事方式:它所提供的事实未必是假的,但它引导你得出的
ASML曾断言,三年内中国将自产光刻机,如今三年到了,我国怎样了
问题的根源在于，光刻机技术和产业链极其复杂，涉及众多关键技术和国际供应链。美国的技术封锁及对关键供应国的影响力使得中国的发展受限。例如，光刻机的关键零部件多依赖德国供应，而德国作为美国的盟友，使得中国在获取这些零部件时受到制约。因此，中国在光刻机技术上的自主研发之路还很漫长。尽管取得了一定进展，但...
国产euv何时量产 - 百度知道
2024年底：小批量生产已实现根据中国半导体行业协会发布的《2025年中国集成电路产业发展报告》，2024年底中国已成功研制出国产EUV光刻机并实现小批量生产。这一进展标志着国产EUV技术从研发阶段迈入工程化应用阶段，为后续规模化量产奠定了基础。小批量生产通常用于验证设备稳定性、工艺兼容性及良率控制，是量产...
芯片制造新突破?国产EUV传出消息
相对来说，更大的阻碍是：ASML申请了EUV技术专利，那种各种细节的专利限制！实际上，包括了日本半导体设备厂商 尼康、佳能，依旧被“禁锢”在 所谓上一代DUV深紫外光刻机的根源，除了技术研发投入大、需要足量客户订单，就剩下专利阻碍了。从这角度来看，2025年4月底的“国产化EUV技术突破”，强调了“绕过”ASML布...
EUV光刻机突破中的科技与产业创新是如何融合的?
2002年3月,SNL宣布,VNL项目联合研制的现代光刻机原型EUV工程测试台完成全球首次技术可行性的测试和验证。在此基础上,ASML充分利用前期研发成果,继续与零部件供应商协作,于2006年推出EUV商用测试机Alpha Demo Tool(ADT)。 中试放大阶段:分系统攻关与集成、...
中芯国际称7nm EUV光刻机问题已解决 研发步入正轨_中国工信产业网
在半导体工艺进入10nm节点之后,制造越来越困难,其中最复杂的一步——光刻需要用到EUV光刻机了,而后者目前只有荷兰ASML阿斯麦公司才能供应。中芯国际去年也订购了一台EUV光刻机,日前该公司表示与ASML之间已解决光刻机的问题,EUV技术研发步入正轨。 前不久有消息称ASML停止对中芯国际供应EUV光刻机,随后ASML公司表示不...
央视“点名”EUV光刻机,中科院自研设备落地,外媒:闹剧结束 - 科技...
若想冲破西方的芯片封锁，摆在我们面前的只有一条路可走，那就是：打破垄断，实现EUV光刻机的国产化。为此，中科院、清北高校等科研机构纷纷入局光刻领域，展开核心技术的自主研发。然而，没想到的是，ASML对我们自研EUV居然不屑一顾，而且还泼来冷水：即便给中国完整的设计图纸，他们也无法造出EUV，甚至连“山寨”也...
封锁、逆境、曙光:国产光刻机的艰难往事 - 知乎
70年代初,美日等国分别研制出接近式光刻机,而国内却一直停留在接触式光刻机。 1977年,江苏吴县举行了全国性的光刻机座谈会,明确要改进光刻设备,尽快赶超世界先进水平。于是清华大学精密仪器系、中电科45所等先后投入研制更先进的光刻机。 进入80年代后,国产光刻机研发捷报频传。
光刻机拆解传闻:逆向工程思维应休矣,自主创新需夯实
更令业内担忧的是，即便是现有的国产设备，也常因停机率高、良率不稳而难以被大规模采用。综上我们不难看到，中国光刻机面临的是体系性封死的窘境，并通过整机、零配件、服务，包括我们现在自主研发部分核心部件的依赖得以体现，加之“自主可控”国家最高战略的背景下，光刻机作为“卡脖子”环节的核心，业内承受的...