中国国产光刻机EUV测试:颠覆性技术横空出世
可这门手艺不是谁都能掌握，目前世界上只有荷兰ASML能做出最顶级的EUV光刻机，号称“芯片界的核武器”。你要是想生产最先进的芯片，没这台神器就是干瞪眼。那问题来了，这种高端装备咱们能不能自己造？答案以前是“不行”，现在可能就不一样了。最近外媒曝出中国在东莞测试一种全新的EUV光刻技术，用的是激光诱导放电等离子体（LDP
外媒:中国国产EUV光刻机测试颠覆性的技术
外媒近日聚焦中国国产EUV光刻机测试进展，一场由技术突破引发的全球半导体竞赛正悄然拉开序幕。长久以来，高端芯片制造的关键环节被荷兰ASML把持，其极紫外（EUV）技术如同“光刻机壁垒”，让全球半导体巨头难以突破7纳米以下制程。每台造价上亿欧元的设备，像巨型保险柜般守护着核心技术。而中国企业曾被迫在技术封锁中“...
曝光剂量降47%!中国光刻胶技术领跑,西方急了
当日本信越化学的工程师在实验室反复调试光刻胶配方时，他们或许没料到，中国科研团队用一组颠覆性数据击碎了垄断神话——曝光剂量降低47.6%，生产效率提升48%，国产EUV光刻胶的横空出世，不仅撕掉了“日本技术不可超越”的标签，更重塑了全球半导体材料的权力格局。这场从“0到1”的突破，背后是中国在高端制造领域...
我们获胜了!外国媒体:中国自主光刻机极紫外测试创新性技术
EUV光刻机，也就是极紫外光刻机，主要用13.5纳米的很短波长的光，在硅片上刻画超细的电路图案。以前用的光刻是193纳米的光，当刻到7纳米左右就到瓶颈了，要想再变细，只能靠EUV这个技术帮忙。ASML从2000年代就开始研究这个技术，投入了上百亿欧元，直到2020年才推出第二代高数值孔径（NA0.55）系统，价格起码...
外媒报道:国产光刻机EUV测试取得突破性进展
荷兰ASML垄断高端光刻机很多年 他们的EUV技术是王牌 7纳米以下芯片基本离不开这个 最近外媒报道提到东莞 有企业在测试激光诱导放电等离子体技术的EUV系统 这不只是追赶 可能带来颠覆 系统计划25年第三季度试产 26年大规模上马 中国或许能摆脱对ASML的依赖 数据上效率和稳定性都过关 半导体圈反应很大 大家都在看中国能...
中国电子束光刻机横空出世,谁也没料到美国芯片管制霸权就此瓦解!
8月14日，全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”进入应用测试，消息传出后，业界声音响亮：出口管制失效了。这种论断并非空穴来风，其深层原因，是“羲之”精准命中了芯片研发中最顽固的痛点。这台设备不仅仅是技术参数的突破，它在更深层次上改变了游戏规则。掩膜之桎 芯片研发环节，一个长期存在的“老大难”问题便...
我们赢了!外媒中国光刻机EUV测试突破性技术
2023年，华为加入了这个项目，凭着多年的芯片设计经验，把光刻参数调整得更合理。到了2024年，国家大基金三期砸下上千亿专门冲半导体装备，LDP技术拿了大头。这些投入让国产光刻机的数据直接翻倍，镜面反射率拉到了70%，比之前的原型机强了不少。说到测试环节，东莞的工厂硬件实力直接被曝光。外媒还挖出了行业会议的...
国际媒体聚焦:中国自研EUV光刻测试,突破性技术引全球关注
那座城堡就是ASML，那柄神兵就是EUV光刻机，一把能决定一个国家科技命脉的“权杖”。想搞懂ASML到底有多牛，你就得明白它的技术有多“逆天”。它那套激光产生等离子体（LPP）的玩法，简直不像是地球上的工程。你想象一下，在一个比手术室还干净万倍的真空环境里，一个喷头以每秒三十万滴的速度，喷出比头发丝...
我们赢了!中国国产光刻机EUA测试颠覆性的技术,外媒:远超预期
有消息称，我国国产光刻机正在测试LDP技术，也就是利用激光诱导放电等离子体技术，这也是颠覆EUV的一种新技术。在中国芯被美技术封锁后，从芯片技术到芯片制造设备，处处“卡脖”，甚至连中芯国际真金白银花了数亿美元采购的EUV光刻机都无法交付，这倒逼着中国半导体产业发奋自强，自主创新。当时，ASML公司的高管曾...
我们赢了!外媒中国光刻机EUV测试革命性技术
工厂那边的洁净室等级拉满，100级，测试线从光源到曝光全流程打通，晶圆传送用的还是国产机械臂。更狠的是，团队在2025年上半年又把参数调了上百次，把放电频率从10kHz提升到20kHz，效率直接翻倍。外媒还特意强调，这套系统体积只有ASML的一半，耗电量低30%，以后想大规模铺开，成本和运维都好管。其实不光中国，...
国产DUV光刻机试产成功,打破技术垄断!全球芯片格局或迎颠覆性变革
市场上对它评价不一，有人认为这是中国人为自己打开局面的关键一步，也有人担忧全球供应链不会轻易在中国光刻机身上妥协。面对这么多年被卡脖子的经历，它的横空出世已经是一个巨大的突破。普通中国民众应关心的，也许不只是技术本身，而是它带来的希望：设备自主了，就不用看别人脸色办事了。光刻机上测试生产线，仅仅是个开始，并不等于
中国光刻机再突破:哈工大领跑,全球惊叹“逆袭”崛起!
2019年，华为等企业遭遇美国芯片制裁，先进制程供应链被切断。中芯国际在港口等待的EUV光刻机，成了“卡脖子”技术的象征。面对封锁，国内科研人员没有退缩，而是选择“硬碰硬”——用最艰难的方式攻克技术难题。在光刻机的核心技术攻坚战中，哈尔滨工业大学的团队走出了“正面硬干”的路子。他们每天反复调试机械臂，...
上海光机所在EUV光源技术上取得了重大突破
尽管目前尚未达到商用标准（5.5%），但这一成果为国产EUV光刻机的研发奠定了坚实基础。固体激光器相较于二氧化碳激光器，具有显著优势。其体积仅为二氧化碳激光器的1/10，能耗降低40%，为光刻机的小型化和低成本化开辟了新路径。这一光源技术的颠覆性创新，标志着中国在EUV光刻机核心技术上迈出了关键一步。2. ...
国产EUV逆袭!全相位晶体攻克...@蕉蕉猫札记的动态
然而,与阿斯麦EUV光刻机技术路线的核心差异,主要集中在最关键的光源和镜头模组上。本文将从技术参数和原理出发,深入解析这一颠覆性创新背后的技术逻辑。 阿斯麦EUV光源采用LPP(激光产生等离子体)技术,能够辐射出波长为13.5纳米的极紫外光,功率提升到满足量产需求的250W以上,且转换效率相对较高,约5%-6%。而国产EUV光源...
台媒:国产光刻机横空出世,荷兰的阿斯麦已经感到了深深威胁
阿斯麦CEO在季度财报会上承认，中国市场的DUV光刻机订单锐减40%。 他们最先进的EUV设备，因为缺少中国客户的维护费，单台利润缩水了18万欧元。韩国三星的晶圆代工报价被迫下调7%，还是没抢回被长鑫存储撬走的华为订单。 在深圳龙岗的华为实验室，工程师拆开最新款手机。90%的零部件贴着国产标签，连螺丝钉都来自东莞...
蔡正元:中国国产EUV光刻机横空出世!彻底... 来自军武季 - 微博
蔡正元:中国国产EUV光刻机横空出世!彻底颠覆传统光刻机的设计 L军武季的微博视频 小窗口 û收藏 37 28 ñ233 评论 o p 同时转发到我的微博 按热度 按时间 正在加载,请稍候... 超话粉丝大咖(季语微评超话) 3 公司 华夏复兴总部 Ü 简介: 没有什么能够阻止我以“中立...
中国光刻机技术突破:从实验室到市场的逆袭之路
在中国哈尔滨成功建成全球首条光子芯片产线后，西方国家才恍然大悟：他们所封锁的，仅仅是旧时代的钥匙，而中国却正在打造新世界的大门。这一事件不仅揭示了技术的突破，更标志着文明范式的跃升。从“中国制造”到“中国标准”的历史性跨越，正在这些创新中不断上演。上海临港的国产光刻机以北斗系统进行精度校准，合肥...
7个亿都难求一台?中国现在却能霸气量产,打破日本垄断_光学_导体...
2024年底,中国成功组装完成首批国产EUV光刻机,经测试,其性能已经达到120纳米线宽的加工能力,虽然与国际最先进的3纳米制程相比还有差距,但已经可以满足许多集成电路产品的制造需求。 根据中国电子信息产业发展研究院2025年初的预测,随着技术的持续迭代,中国EUV光刻机的性能将快速提升,预计到2027年有望达到28纳米制程水平,...
国产EUV光刻机试产进展解析
国产EUV光刻机计划2025年第三季度在东莞启动试生产。首台激光诱导放电等离子体(LDP)原理样机SMEE3600已在华为东莞工厂完成压力测试。这个时间点基于技术突破和产业准备,是国产EUV光刻机从实验室走向实际应用的关键一步。 二、核心技术突破点 1. 光源技术:多路径突破国际垄断 哈工大研发的放电等离子体极紫外光源(DPPEUV...