“光刻机之父”林本坚曾表示:中国现有设备能造出5nm芯片,美国已承认
说起半导体行业，总绕不开光刻机这个核心设备，而提到浸没式光刻技术，就得谈谈林本坚这个人。他出生在1942年，早年从台湾去美国读书，1965年在加州大学伯克利分校拿了学士学位，之后继续深造，1970年拿到电气工程博士。刚毕业，他就进了IBM公司，那时候半导体还在起步阶段，他主要钻研微影技术，就是怎么用光把图案刻到芯片上
美国官员承认了!中国拿落后的光刻机造先进芯片,美国无法阻止中国...
前台积电副总经理、浸润式技术发明人林本坚在其著作《Optical Lithography》中解释了这一技术原理：浸润式光刻机搭配MPT技术，可以实现更复杂的图案化曝光，制造出晶体管数量更多、金属间距更小的先进芯片。美国的反应与战略调整 面对中国芯片产业的突破，美国在2024年1月颁布了最新的限制措施，迫使荷兰政府撤销了ASML的对...
林本坚揭示:中国半导体产业崛起,已具备制造5nm芯片能力
他进一步阐释，中国所使用光刻机极有可能是自主研发的。经过持续的改进与优化，大陆的光刻机已能成功生产出5纳米芯片，这一进展令人瞩目，美国方面也已确认中国已掌握5纳米芯片技术。尽管林本坚在业界可能不为大众所熟知，但他被誉为“浸润式光刻机之父”，这一称号彰显了他在光刻技术领域的卓越成就。自20世纪70年...
美国官员亲口承认:中国拿落后的光刻机造先进芯片,封禁令反促突破...
2023年，一款搭载7nm制程芯片的手机悄然上市。 美国技术专家拆解后确认，这颗芯片确实由中国企业制造。 这个事实让华盛顿感到困惑：中国是如何在没有最先进EUV光刻机的情况下实现这一步的？答案藏在二十年前的一项技术选择里，台积电前研发副总林本坚发明的浸润式光刻技术，原本是作为EUV技术成熟前的过渡方案。 这项技...
美方官员坦承!中国用落伍的光刻机制造高端芯片,美国无力阻挡中国...
林本坚那本《Optical Lithography》早说过原理 浸润式光刻配多重图案化技术 能刻出更精密的电路 现在美国人开始调整策略了 芯片战争在2024年初换了打法 美国人在新年第一个月就亮出了新招数 他们逼着荷兰政府收回ASML的出口许可 那台浸润式光刻机彻底卡在了海关 这事还没完 调查人员开始翻旧账 连早就卖到中国的...
中国无视美国的技术封锁,美国已经无法阻止中国大陆发展5nm技术
他认为，中国可以通过现有设备的改进，进一步推进到5nm工艺。这句话，既是对中国技术实力的认可，也是对美国封锁政策的无声嘲讽。目前，5nm芯片的制造确实对分辨率提出了更高的要求。传统光刻技术已经无法满足需求，业界普遍依赖EUV（极紫外光刻机）来实现这一目标。然而，EUV设备的高昂成本和对中国的出口限制，让国产...
华裔技术专家、浸润式光刻机之父:大陆可自主研发5纳米芯片,美国拦不住|...
近日,据彭博社报道,早已退休的“浸润式光刻机之父”、台积电前研发副总林本坚(Burn J. Lin),在接受采访时罕见地表示,美国无法阻止中国大陆公司在先进制程芯片技术方面取得进步,并表示中国应该能够利用现有设备继续推进到下一代的5nm制程工艺。 一向与大陆少有往来也很少发表相关评论的林本坚,这一发言让外媒也感到惊讶...
水的哲学:一位工程师与中国芯片的破壁之路
水的哲学：一位工程师与中国芯片的破壁之路 实验室的灯光在深夜依旧明亮。六十二岁的林本坚站在台积电的洁净车间里，指尖拂过冰冷的光刻机外壳。金属表面倒映出他紧锁的眉头——那是2002年，当整个行业困在157纳米干式微影的技术泥沼中时，他脑海中那个看似荒谬的念头正逐渐成形：若以水为镜，能否照见芯片的未来？--...
抢先一步!中国订购光刻机提前交货 可产5纳米芯片 美阴谋再一次落空
整体看，美国的多次施压没完全挡住中国半导体进步，拜登政府的官员在国会压力下承认，中国芯片产业的韧性超出了预期。具体到5纳米芯片的生产，中国企业靠的就是这些提前到货的阿斯麦设备。中芯国际在2024年4月报告，首批5纳米测试芯片通过验证，虽然良率只有30%，但通过迭代优化，到2025年上半年良率提到了50%。他们用自...
光刻机之父林本坚发声,中国芯片可自主研发5纳米,美国拦不住
外媒报道指早已退休的台积电前研发副总林本坚接受采访的时候表示,美国无法阻止中国研发先进工艺,还认为中国可以利用现有设备研发更先进的5纳米工艺,他的表态让外媒相当吃惊。 林本坚如此说法在中国的华为研发出相当于7纳米工艺的麒麟9000S之后,他认为中国芯片行业展现了显著的韧性和独创性,因此认为中国芯片行业不会局限于7纳...
光刻机之父林本坚,大陆国产5nm芯片量产,美国拦不住_哔哩哔哩...
光刻机之父林本坚,大陆国产5nm芯片量产,美国拦不住账号已注销 立即播放 打开App,流畅又高清100+个相关视频 更多 8585 2 12:50 App 加拿大老爹:某些中国人很傻很天真,英伟达留后门专坑中国。 2.3万 27 14:33 App 乌凌翔 中国最近两项光刻机技术突破,而且做出产品了,但无助于挣脱买不到EUV的困境,为什么?
台积电:中国已无视美技术封锁,因为已无法阻挡中国发展5nm技术
台积电前研发副总裁、“浸润式光刻机之父”林本坚在一次访谈中直言，美国的技术封锁对中国的影响有限，中国完全可以利用现有设备冲击5nm制程工艺。听到这话，不少人都觉得振奋。毕竟，这是来自芯片行业顶级技术专家的评价，可信度可不是一般的高。美国在芯片领域的封锁手段一波接着一波，尤其是对浸润式光刻机的出口...
林本坚:浸没式DUV可以做到5nm,但成本将非常高! - 知乎
2023年11月27日,据台媒DigiTimes报道,近日有着“浸润式光刻之父”之称的林本坚(Burn Lin)在接受采访时表示,依靠DUV光刻机继续将制程工艺从7nm推向5nm是可能,但是需要付出高昂的代价。 报道称,由于美日荷对华半导体设备的限制,使得中国不仅难以获得可以制造先进制程的半导体设备,同时更为先进的EUV光刻机也无法获得。
用DUV制造5纳米芯片?浸润式光刻之父林本坚:可行! - 知乎
华为Mate 60 Pro 搭载海思麒麟9000S突破美国制裁而在业界造成不小轰动,业界普遍认为麒麟9000S是采用DUV光刻机多次曝光制造出来的。 根据最新报道,台积电前副总裁、被称为浸润式光刻之父的林本坚(Burn J. Lin)认为,在现有DUV 设备制造不仅能制造7纳米,甚至5 纳米芯片也是可行的,不过将非常昂贵。 据悉,华为为2024 ...
林本坚:美国芯片技术限制难阻中国芯片自主发展
近日，据彭博社披露，已退休的台积电前研发副总、被誉为“浸润式光刻机之父”的林本坚（Burn J. Lin），在接受媒体采访时意外发声，指出美国无法阻碍中国大陆在先进制程芯片技术上的发展步伐。他进一步预测，中国有望凭借现有设备，逐步迈向下一代的5nm制程工艺。此番言论，对于一向保持低调且鲜少发表类似观点的林本坚...
中国芯片技术突破与合作:林本坚的信心与挑战
他就是被誉为“浸没式光刻之父”的台积电前副总裁林本坚。他明确指出，美国无法遏制中国大陆在先进制程芯片技术上的进步，任何阻碍都将是徒劳的。同时，林本坚还提出，中国有望利用现有设备进一步研发至下一代的5nm制程工艺。这一观点激起了广泛的热议和深入思考。林本坚的坚定信念源自他对芯片制造工艺的深刻理解。他...
浸润式光刻机之父:美国封锁无用,中国大陆能造出5nm芯片
禁了浸润式光刻机,我们的芯片产业怎么办?无法再生产7nm芯片,再也无法进入7nm之下了么? 近日,台积电前研发副总,浸润式光刻机之父林本坚表示,美国是无法阻止中国大陆在先进制程芯片技术方面的进步,中国大陆可以利用现有设备,推进到5nm工艺。 其它人这样说,可能大家觉得是在吹牛,但林本坚这样说,意义却不一样的。
“光刻机之父”林本坚:中国现有设备能造出3nm芯片
在过去很长一段时间里，中国被欧美国家控制和压制，但如今的中国已经站上了制高点，不再受制于他人。这种突破在美国眼中犹如一场魔法般的奇迹，让他们无法理解和接受。华为的崛起看似是一场科技战争，实质上却是一个国家的崛起和欧美霸权的挑战。林本坚的贡献与成就 林本坚被誉为“浸润式光刻机之父”，他是半导体...
林本坚重话掀桌,中国现有设备冲到5nm,美国认了,成熟产能猛增,谁还...
用现有深紫外浸没式光刻机叠加多重曝光可以做出5纳米,中国大陆正在把这条路走通,美国方面也因拆解证据而承认这一点技术**有边界,深挖存量工具的潜力,才是这场拉锯的关键变量问题不在“有没有EUV”,而在“现有工具还能被逼到哪一步”另一个绕不开的疑问是,当技术差距被缩短,价格和产能会不会成为压垮对手的最后...