中国EUV光刻机研究注定失败,再搞多少年都是徒劳,专利是拦路虎?
说句实话，继续盯着EUV搞，确实像标题说的，注定失败，再搞多少年都徒劳。因为不光专利，供应链和技术积累差距太大。ASML从上世纪90年代起步，中国2000年代才跟上，起步晚，缺少经验。侵权案一堆，2023年8月又有中国公司回收旧机逆向，结果镜面坏了没法修。研发周期长，SMEE的DUV原型测试真空泄漏，延期多次。
ASML高管:中国光刻机研发多年,至今为何拿不出设备
ASML高管一句“中国还得几年才能搞出EUV光刻机”，像一盆冷水泼下来，直接把国内的“机密论”浇了个透心凉。光刻机，芯片制造的命根子，全球被荷兰ASML捏得死死的，中国自研的每一步都牵动人心。可这话一出，中国企业却哑巴了，没人站出来吭一声。这背后，是真有“机密”藏着，还是遮不住的技术差距？今天咱...
ASML封锁EUV光刻机 中国研发投入逆势飙升20%
在这种情况下，中国科研团队开始自个儿摸索新路数。哈尔滨工业大学凭激光诱导放电等离子体技术搞出核心部件效率提升40%的成果，要我形容，就是原本跑100米10秒，现在直接提速到6秒多一点；清华则在极紫外（EUV）用高灵敏度光刻胶材料上出成绩，中科院合作单位更是在纳米级镜面误差控制上降到了百分之一纳米——这一...
中方开始关闭EUV光刻机的大门,结束被“卡脖子”的日子了
这几年，ASML公司的高管们估计睡不好觉了。这家掌握全球高端光刻机命脉的荷兰巨头，正眼睁睁看着自己精心设下的技术壁垒被中国一点点突破。美国政客们挥舞着“国家安全”的大旗，硬是把EUV光刻机这把“尖刀”锁进了保险箱，满心以为这就能卡住中国芯片产业的咽喉。谁知道，这帮老外打错了算盘。记得前几年吗？...
重磅!中科院正式宣布,中方开始关闭EUV的大门
“即使给中国图纸，他们也造不出光刻机”——2018年ASML高管的傲慢论断言犹在耳，2025年3月25日，中科院用全固态深紫外激光光源技术的突破，在全球半导体战场投下一枚“技术核弹”。这场逆袭不仅让ASML连夜召开紧急会议，更标志着中国正用自主创新的铁拳，将EUV光刻机的垄断大门缓缓关闭。一、技术突围：在西方专利...
为何中国无法攻克7nm EUV光刻机?
一、起步晚了10年，中间还因为各种原因停了10多年没搞研发。别说EUV这种高大上的东西了，就说最早的光刻机吧。从步进式光刻机开始，中国就已经比美国落后了差不多10年。后来更惨，国内流行起了“造不如买”的思想，觉得买别人的更划算，结果国产光刻机的研发直接停摆了十几年。其实光刻机的技术是一步步累积...
ASML:中方开始关闭EUV光刻机的大门
“图纸给你们也造不出！”这是ASML曾对中国芯片专家的嘲讽。然而2025年3月25日，中国科学院宣布的固态深紫外（DUV）激光技术，不仅让这句傲慢的预言沦为笑柄，更意味着中国半导体产业正式向3nm工艺发起冲锋。这项技术究竟如何绕过ASML的专利封锁？它能否撕开芯片制造“铁幕”，终结EUV光刻机的垄断？答案藏在193纳米的...
EUV光刻机:为何全球仅ASML一家能造,中国造不出来?
ASML的垄断地位，本质上是全球科技产业百年积累的结果。从美国的基础研究、欧洲的精密制造到亚洲的产业应用，EUV光刻机凝聚了30多个国家、数百家机构的智慧。对中国而言，追赶不仅需要技术突破，更需要重构从基础科研到产业生态的完整体系。这条路注定漫长，但每一次在材料、光学或控制算法上的微小进步，都在为最终突破...
EUV光刻机:芯片制造的巅峰较量,中国如何突围技术壁垒?
就在所有人以为这是一场“注定失败”的冒险时，剧情突然掀开了另一幕：中国企业的一些出人意料的突破迅速让局势变得令人瞠目。蓝英装备和富创精密居然成为全球为数不多能向ASML提供EUV清洗与零部件的公司。再南大光电不仅实现了KrF光刻胶的量产，连更先进的ArF光刻胶也进入了中芯国际的下游供应链。这就好像一场...
中国光刻机发展受阻!EUV技术垄断如何破局?
我们一开始搞光刻机就比西方大国晚了十年。后来有一段时间，国内很多人觉得买比自己造划算，国产光刻机的研发又停了好多年。要知道，光刻机技术是一步一步积累起来的，从干式到浸润式再到EUV，每一步都很重要。就像盖楼一样，先打地基再一层层往上建。如果我们前面的地基没打好，直接想建高层是不可能的。所...
为什么中国研发不出7nm的EUV光刻机?有3个原因
一、起步晚10年，中间又停了10多年研发。不说EUV，就说最开始的光刻机发展，从步进式开始，中国就落后美国十年以来，后来有一段时间，中国更是涌现了了“造不如买”的思源，导致国产光刻机的研发，又停步了十多年。而光刻机技术是一代一代积累的，从干式到浸润式，再到EUV，一步一台阶，就像修高楼一样，是
五年能否突破EUV光刻机?破解中国芯片制造“封锁迷局”的关键与挑战
正当一切看似沉寂时，中国半导体产业链内传来了一组振奋人心的数据：从2023年到2025年，配套EUV光刻机系统的多个关键项目已经完成了技术验收，并逐步进入落地应用阶段。比如真空系统，它可以说是光刻机的“洁净房”，要求内部万分之一根头发丝的灰尘都不能漂浮，目前国产方案已经拿到合格成绩单；还有温控系统，用于保持...
阿斯麦CEO表示:中国开发光刻机很努力,但想追上我们有很长的路要走
2024年12月，阿斯麦的首席执行官克里斯托夫·富凯在接受荷兰媒体NRC采访时，直言不讳地说，中国在芯片制造能力上落后西方10到15年，主要原因是没法拿到他们的EUV光刻机。他觉得，美国主导的出口禁令确实起作用了，因为没有EUV，中国就没法高效生产5纳米以下的先进芯片。这话一出，科技圈里炸了锅，一方面承认中国努力在...
造芯片比原子弹难?国产EUV光刻机来了?美芯片竞赛只是徒劳无功
国产EUV光刻机尚待突破，但四大协会已联合发声支持国产芯片产业发展，同时芯片出口额突破万亿大关，哈工大也成功研制出13.5纳米深紫外光源，为相关技术突破提供了有力支撑。中国芯片和光刻机技术正经历严峻考验，各方全力以赴，最终成败，时间自有评判。创作不易，盼望您的点赞评论与关注，支持更多精彩内容呈现。
极紫外光刻机(EUV)中国"卡脖子"深度解析:核心技术壁垒与突围路径...
2.2 中国EUV光刻机技术攻关进展 面对技术封锁,中国自2017年启动EUV自主攻关,目前已在光源、光学系统等关键领域取得突破,但整体仍处于"从0到1"的攻坚阶段 。以下是截至2025年的最新进展: 光源系统:2025年4月,中国科学院上海光学精密机械研究所林楠研究员团队宣布重大突破,基于固体激光器的LPP-EUV(激光等离子体极紫外...
ASML:中方开始关闭EUV光刻机的“大门”了
四、未来之战：从实验室到量产，中国芯片的“长征”尽管固态DUV光源技术迈出了关键一步，但距离量产仍面临两大鸿沟：1. 工程化挑战：功率和频率需提升至少两个数量级，且需与国产光刻机的其他模块（如物镜、对准系统）无缝整合；2. 全球竞争压力：ASML正加速下一代高数值孔径（High-NA）EUV研发，目标在2030年实现...
美国旧招全废!中国追赶不走老路,高科技突破出奇制胜
荷兰的艾司摩尔（ASML）生产的光刻机全无对手，它的产品占全球高端光刻机市场份额逾80%，EUV光刻机占100%。科技界都知道，没有EUV光刻机，就不能生产出3纳米或2纳米晶片。商界都知道，没有ASML的光刻机，台积电、三星和英特尔生产晶片也将寸步难行。然而在美国施压下，2024年起ASML不能向中国交付包括EUV光刻...
压力山大!过度封锁不可取,美媒:EUV光刻机变得不那么重要了
你猜,美国花10年卡中国脖子,最后卡住了谁? 2025年,ASML股价跌掉1300亿美元,中国半导体设备自给率冲到50%。不是中国多牛,是美国自己把路走死了。 他们以为断了EUV光刻机,中国就完蛋了。 可中国没哭,转身搞起了小芯片堆叠、纳米压印、电子束刻蚀。2023年发布ACC1。0标准,2025年量产多芯片集成方案。一台EUV卖...
芯片出口首破万亿后,我国又关上EUV光刻机大门,如今ASML后悔莫及
研究团队把1030纳米基频激光分两条路，一条四次谐波转258纳米，另一条光学参数放大成1553纳米，再合成193纳米相干光，专攻半导体曝光。这项技术直接绕EUV壁垒，多重曝光下，DUV光刻机也能干3纳米活儿，成本才EUV四成。上海微电子马上测5纳米DUV原型机，2026年量产计划在走。2025年一季度，中国光刻订单同比掉45%，...
ASML总裁曾叫嚣:中国自研光刻机是破坏全球芯片产业链,这是怕了?
说起芯片这事儿，很多人觉得离自己挺远，但想想手机、电脑、汽车，全都离不开它。光刻机就是芯片制造的核心装备，全球就荷兰的ASML一家玩得转高端货，尤其是EUV那种能搞7纳米以下的玩意儿。2023年春天，ASML的总裁彼得·温宁克突然跳出来放话，说中国自己搞光刻机研发，会搞乱整个全球芯片供应链。这话一出，...