中国自主研发光刻机:将突破5nm,找回中国半导体产业失去的30年
再者是支撑材料和关键零部件的国产化问题。光刻机的核心零部件一直依赖进口，成本高昂且供应不稳定。为了解决这一问题，中国科研人员加大自主研发力度，逐步实现了关键零部件的国产化，彻底打破了国外技术封锁。说到中国光刻机技术的发展历程，得追溯到上世纪80年代。当时我们就研制出了初代分步光刻机的原理样机，但由于...
中国掌握5nm封装技术!EUV突破后还需进口光刻机吗?
事情的发展还没停。荷兰和欧盟的态度转变背后，另一个关键因素是中国的芯片技术正在飞速进步。两年前，中国在中低端芯片上已经实现了国产替代，最近连5nm芯片的封装技术都搞定了。更厉害的是，哈尔滨工业大学还突破了13.5纳米极紫外光源技术，这是制造EUV光刻机的核心一步。换句话说，荷兰再不卖光刻机，哪怕是DUV...
中国首台国产5纳米光刻机问世,突破半导体制造核心技术 - 百度知道
我国科技领域取得了重大突破，首台国产5纳米光刻机正式问世，标志着我国在半导体制造核心技术上实现了重要跨越。这一设备的诞生不仅标志着我国科技实力的显著提升，也为我国半导体产业的自主创新和自主发展奠定了坚实基础。长期以来，光刻机作为半导体制造的关键设备，其技术先进性直接决定了芯片的性能。我国曾...
我国新型国产光刻机问世,技术复杂,逐步解决技术差距
据新浪财经9月16日的报道，荷兰阿斯麦公司早在2006年推出的DUV光刻机XT，便已达到了193nm的光源波长、57nm的分辨率和7nm的套刻精度。从这个角度看，咱们新发布的光刻机相当于西方18年前的技术水平。更令人忧虑的是，这款65nm分辨率的国产光刻机，可能只是对上海微电子2018年推出的90nm分辨率SSA600光刻机的改进...
无需ASML出货,国产光刻机迎来喜讯,果然被张召忠给说中了!
不过，从光刻机设备的国产化来看，未来很有可能就无需ASML向我们出货了。包含先进的EUV光刻系统，国内均传出了不少的喜讯。这下可真的被局座张召忠给说中了，“中国未来的芯片产品会满大街都是，连3nm、5nm的产品也一样。”事实上，早在2024年9月份，上海微电子就公开了一项极紫外辐射装置的技术专利。当时，...
喜报!国产官宣,5nm蚀刻机实现原子级精度
不仅如此，我国在光刻机领域也有了重大突破，去年九月份工信部公布一款国产光刻机——“氟化氩光刻机”，其分辨率达到65nm以下，套刻精度为8nm以内，可用来生产28nm工艺芯片。硬件自主可控，软件也得跟上 前面讲到的中微刻蚀机和光刻机都很争气，让世界都看到了中国力量！但是，芯片产业芯片产业要想一路高歌猛进，光...
国产光刻机崛起,5nm芯片问世
国产光刻机崛起,5nm芯片问世! 在这个科技飞速发展的时代,每一次技术的突破都是历史的飞跃。国产光刻机的发展历程就像一部波澜壮阔的史诗。从90nm到5nm,中国光刻机技术一步步逼近国际尖端,这不仅是一场技术的较量,更是意志与信念的较量。正如司马懿挥剑一瞬,背后却是十几年的磨剑之功。我们厚积薄发,只为那关键...
突发!中国突破美国制裁,国产光刻机成功问世!
9 月 6 日，荷兰政府表示对部分光刻机的出口实施严格管制，这让中国芯片制造业的未来瞬间蒙上了一层阴影。就在业界满怀忧虑之时，9 月 9 日，工信部出人意料地送上了一份特别的“大礼包”。国产光刻机已然成功！这一成果将会给中国半导体产业造成何种影响呢！国产 DUV 光刻机横空出世，令科技界与芯片行业群情...
老美靠不住,中国5nm“刻蚀机”问世,央企带头采用国产芯片
嘿，那咱中国就开始紧锣密鼓地搞国产光刻机研发啦，可算在 2023 年年底的时候，把国产 28 纳米大尺寸浸没式光刻机 SSA/800-10W 给弄下线喽。嘿，咱这国产光刻机虽说能造出能用的芯片，可造出来的芯片那厚度可不小嘞。所以呀，老是被人笑话，说咱中国的光刻机一出生就比别的光刻机落后了 20 年呢。嘿...
全球瞩目!中国首台DUV光刻机惊艳亮相,开启芯片制造新纪元
国产光刻机迎来重大突破，我们迈出了历史性的一步！嘿，这几天可真是热闹非凡！工信部发布了一则重大新闻，宣布咱们国产的首台DUV光刻机正式问世了！这可是个大喜讯，咱们普通老百姓也得好好聊聊这个话题。一、光刻机到底是啥？为啥它这么重要？首先，咱们得弄清楚光刻机是个啥东西。简单来说，光刻机就是制造...
中国自主研发光刻机:技术突破,剑指5nm,展现半导体产业崛起实力
光刻机作为半导体产业链的核心环节，其突破将带动整个产业链的国产化进程。国内半导体市场的旺盛需求和巨大的内需驱动力，为光刻机技术的突破提供了有力支撑。中国大陆半导体制造商已成为ASML的重要客户，2023年收入占比高达3%，仅次于台湾地区。虽然目前中国在高端5nm和3nm制程上与国外存在差距，但28nm制程已能满足半导体...
美国封锁之下,国产光刻机逆境突围,荷兰媒体也坐不住了!
而华为多重曝光技术，简直就是“卷王”附体，用廉价的DUV光刻机就能搞定高端芯片，你说牛不牛？更得劲儿的是，华为麒麟的5纳米芯片也已经问世了，晶体管数量比苹果A14还多出30%，性能杠杠的！过去啊，咱们在高端芯片上被卡脖子，那叫一个憋屈。但现在，咱们在外部封锁下另辟蹊径，直接弯道超车成了半导体强国，真...
我的国厉害了!官方宣布国产DUV光刻机横空问世!终于成了!点赞
从产业发展的角度来看，国产DUV光刻机的突破为中国芯片产业的未来发展带来了新的机遇。它可能会引发一系列连锁反应。推动中国在其他关键技术领域取得突破。随着技术的不断进步和产业链的完善，中国有望在未来5-10年内在全球半导体产业中占据更加重要的地位。然而，挑战同样不容忽视。美国及其盟友可能会加大对中国科技产业...
国产光刻机取得重大突破,中国芯片制造能力再获提升
这一设备突破性地应用于8纳米及以下工艺芯片的制造，预示着国产EUV光刻机即将面世。中国目前可查阅的资料显示，纯国产能量产的最先进芯片停留在28纳米阶段。然而，令人振奋的是，纯国产能已成功制造出5纳米芯片！那么，国际领先的台积电目前量产的芯片精度达到了多少纳米呢？答案是3纳米。但这并不意味着我们落后，相反...
突发!中国突破美国制裁,国产光刻机成功问世!
你瞧！“功夫”可从来不会辜负那些有心努力的人哦。经过了漫长又艰苦的奋斗历程呢，咱国产的光刻机就如同一个闪耀的新星般终于诞生啦！这可不得了，它的问世，妥妥地标志着中国在这个极为关键的领域，成功实现了具有历史性意义的大跨越呢！就在这一瞬，曾经付出的所有努力都迎来了甜美的回报呢，那些曾经的质疑声...
年内量产5nm?国产光刻机核心部件最新进展全曝光!
目前主流光刻系统主要使用双工作台进行系统的管理和控制，国产光刻机的控制系统在基础算法和软件层面已实现部分替代。目前最新消息是华卓精科双工件台的运动误差控制在2纳米以内，同步运动精度优于2nm（如与掩模台同步精度），套刻精度可达1.7nm，通过多重曝光可实现7nm制程工艺芯片生产。但华卓精科的双工件台目前仅供应...
国产光刻机技术进展,能否实现5nm芯片生产?
这一进展预示着5nm芯片已能满足国内芯片设计生产的需求，标志着国产替代的重要里程碑。光刻机、刻蚀机和薄膜沉积设备是半导体产业的核心设备，其中光刻环节的国产化率最低、难度最大。然而，随着技术的突破，这一环节的产业化潜力也将得到最大释放，为国内半导体产业链的发展带来新的机遇。虽然目前尚缺乏更多信息证实，...
中国提前获得光刻机,5纳米芯片制造能力突破,美国遏制策略落空
尽管如此，美国对光刻机的贸易限制已从EUV扩大到DUV，但据了解，中国依然可以依靠ASML的DUV光刻机，将制程技术从7nm推进到5nm。但这还不足够，中国正在投入巨资研发国产顶尖光刻机，可能在不到两年的时间内，就能使EUV光刻机价格大幅下降。不久的将来，无论是美国还是ASML，可能都会因此而感到焦虑。#深度好文计划...
中国新型国产光刻机问世,意味着什么?美国还能对中国卡脖子吗?
如今，新型国产光刻机成功诞生，虽然其性能相当于第四代光刻机，但这只是我国从0到1的突破，之后从1到100的那段路，我国向来是飞速发展。就比如2007年美国曾扬言中国想要生产舰载机需要100年，结果只用了5年，我国的歼15就已横空出世，怂叔相信，光刻机同样也是如此，届时美国再想卡中国脖子那就是痴人说梦了，...