不需EUV光刻机也可以造5nm芯片?外媒:中国芯“弯道超车”了
中芯国际的"双重曝光+量子点修正"组合拳，堪称半导体工艺史上的奇谋。通过将193nm ArF浸没式DUV光刻机与自研的图形修正算法结合，这家中国晶圆代工龙头在7nm节点实现了等效5nm的晶体管密度。其秘诀在于：采用基于量子点分布的曝光补偿技术，将传统DUV光刻的套刻误差从5nm级压缩至2nm以下，同时通过多重图形化工艺突破...
不需要EUV光刻机也可以造5nm芯片?外媒:中国芯已经弯道超车
你以为中国芯片就老老实实跟着老外屁股后面跑？那可太小看咱了！EUV光刻机这玩意儿，号称芯片界的“造神器”，可人家ASML死死攥在手里不撒手，咱想要？门都没有！咋办？咱不按套路出牌，直接跳过这老路，搞起了双重曝光、量子点修正、三维堆叠这些“黑科技”，听着就很高大上吧？更牛的还在后头，碳基芯片这...
不需要EUV光刻机也可以造5nm芯片?外媒:中国芯已经弯道超车
不过清华大学魏少军教授说得好：“设计能力是芯片的灵魂，华为证明了中国不缺脑子。”这波操作，就像“手里没枪也要先把子弹造出来”，给后面埋了个大伏笔。可光会设计不够，制造这关咋过？别急，上海的“秘密武器”要登场了。说起造芯片，光刻机就是那把“金钥匙”。2022年，上海微电子搞出了国产28nm光刻机...
造出5nm芯片无需EUV光刻机!外媒:欧美技术被中国芯淘汰了!
我国的工程师居然不用荷兰顶级光刻机,硬生生造出了5纳米芯片! 这可不是实验室里的玩具,华为最新折叠屏手机里跳动的"中国芯",就是最硬核的证明,更绝的是,这场逆袭背后藏着两个惊天杀招,直接把西方五十年的技术霸权撕了个粉碎! 时间倒回三年前,ASML总裁当着全世界的面放狠话:"没有EUV光刻机,中国十年都搞不...
没有EUV也能造5nm芯片?外媒:中国已经找到了“野”路子
这话说得跟“板上钉钉”似的，结果呢？不到一年，2023年华为就甩出个Mate 60 Pro，里头的7nm芯片直接让老张的预言翻了车，网友调侃：“这脸打得，啪啪响啊！”你可能好奇，没那高大上的EUV光刻机，中国咋整的？说白了，就是一群工程师硬着头皮，用老掉牙的深紫外（DUV）设备，把工艺优化到“榨汁”的地步...
不需要EUV光刻机也可以造5nm芯片?ASML总裁:中国芯开始突围
首先是技术成熟度的代际落差，NIL技术目前良品率仅为82%，较EUV光刻机95%的行业标准仍有差距；其次是产业协同的阵痛，碳基芯片需要重构从EDA软件到封装测试的全链条，预计需投入万亿级资金；最严峻的是人才储备缺口，复合型半导体工程师缺口达34万人，相当于现有从业者的三分之二。但历史经验告诉我们，中国最擅长的...
没有EUV也能造5nm芯片?外媒:中国已经找到了“野”路子
2021年，合肥长鑫存储也来了一出好戏。项目老大李平博士带着团队，在安徽那片厂房里，用国产DUV光刻机硬啃19nm DRAM。这玩意儿是存储芯片，手机、电脑里都得用，以前全是三星、SK海力士的天下。合肥厂房灯火通明，工人调试设备汗流浃背，150亿人民币砸下去，月产12.5万片晶圆。2024年，市场份额逼近5%，直接抢了...
没有EUV也能造5nm芯片?外媒:中国已经找到了“野”路子!
ASML眼看苗头不对，最近突然改口要继续卖DUV光刻机给中国。明眼人都懂，这不是良心发现，而是被逼出来的妥协。当然野路子也有代价：用老设备造7nm芯片，成本贵五成，电费多烧三成，华为手机刚上市被吐槽是"暖手宝"。芯片叠叠乐要重写整个架构，软件生态都得跟着改。但中国人愣是玩出新花样——高端芯片追不上？
不需要EUV光刻机也可以造5nm芯片?外媒:中国芯已经弯道超车
可上海微电子不信邪，2022年底，他们的28nm DUV光刻机量产了，国产化率高达90%。别小看这28nm，靠多重曝光技术，能干到7nm以下的活儿，硬是把“没EUV就废”的魔咒给破了。中微半导体的尹志尧老先生说得好：“国产设备不比进口差，2025年见真章。”这话听着多提气！我看这事儿吧，就像“车到山前必有路”，...
没有EUV光刻机也能造芯?中国“去EUV化”路径让ASML措手不及
第二条战线，是直接蚀刻技术的颠覆性突破。2023年，上海创消公司公布了一项“5纳米直接蚀刻”专利，直接将光刻环节从芯片制造流程中删除。这项技术如同用纳米级的刻刀在晶圆上雕刻电路，尽管业界对其量产能力存疑，但其专利数据显示，良品率已达87%，与早期DUV光刻机相当。这家注册资本仅50万元的小公司，折射出中国...
不需EUV光刻机也可以造5nm芯片?外媒:中国芯“弯道超车”了 - 知乎
在中美科技博弈的硝烟中,半导体设备禁运如同一把达摩克利斯之剑悬在中国芯片产业头顶。当ASML的EUV光刻机成为5nm以下先进制程的代名词时,中国工程师却在实验室里开辟出一条"去EUV化"的创新路径。 从量子点修正到芯片堆叠,从三维闪存到自研光刻设备,一场颠覆传统半导体发展范式的技术变革正在东方悄然上演。就连不少...
不需要EUV光刻机也可以造5nm芯片?ASML总裁:中国芯开始突围_技术...
不需要EUV光刻机也可以造5nm芯片?ASML总裁:中国芯开始突围 当ASML首席执行官彼得·温宁克在2025年达沃斯论坛上坦言"全球半导体格局正在重构"时,世界目光已转向东方——中国芯片产业用五年时间,在纳米压印、碳基材料、量子隧穿等赛道开辟出三条"去EUV化"路径,这场史诗级的技术突围战,正在改写全球半导体权力图谱。
外媒:“中国芯”开始全面“破冰”了
而在深圳华为的松山湖基地，碳基芯片的研发已进入3nm制程，这种新材料带来的性能飞跃，让14nm碳基芯片足以比肩5nm硅基芯片的性能表现。这场技术革命的背后，是中国工程师对物理定律的极致探索。中芯国际的工程师们用DUV光刻机玩出了“工艺魔术”——通过双重曝光技术，硬是将14nm设备的潜力挖掘到7nm制程，良品率...
不用EUV也能造5nm芯片?科技奇迹就在眼前!
现在好了啊，有人能不用EUV光刻机也能造出5nm芯片，那咱们国家以后就能更好地发展自己的芯片产业了。这样一来啊，咱们就能摆脱对国外芯片的依赖，实现芯片的自给自足了。这多好啊！说起来啊，这不用EUV光刻机也能造5nm芯片的技术啊，其实也不是一蹴而就的。这是咱们国家的科技人员多年来不断研究、不断探...
我们在造5nm芯片?那全球97%的芯片都能造,美国制裁成闹剧
因此，在能够获得EUV光刻机的情况下，制造商会更倾向于使用EUV紫光线进行制造，这种方法更具经济有效性，因为不需要多次曝光，成本较低。然而，由于国内目前没有可用的EUV光刻机，所以只能使用DUV技术来制造比7nm工艺更先进的芯片。因此，有报道称中国利用DUV技术制造5nm芯片并不是不可信的，甚至有一天可能会传出利用...
2nm,5nm,不需要EUV光刻机了?外媒:日本野心暴露了
点击关注我，每天各种精彩内容不断！导读：2nm，5nm，不需要EUV光刻机了？外媒：日本野心暴露了 在半导体芯片制造领域，光刻机一直是不可或缺的核心设备。其精度和性能直接影响到芯片的制程水平和最终性能。然而，随着全球半导体产业的飞速发展，尤其是芯片制程向更高精度迈进，光刻机的技术瓶颈也日益凸显。荷兰ASML...
中国计划淘汰美国芯片,国产EUV技术展现突破迹象
作为中国在EUV光刻技术领域的重要突破，清华的这项技术不仅是对现有技术的拓展，更可能为未来的技术革新铺平道路。除了在光刻机技术上取得重大突破外，中国在芯片制造领域的进步也令人瞩目。近年来，本土晶圆厂的扩建计划如火如荼地展开，为技术进步提供了有力支撑。中芯国际、长江存储等领军企业纷纷宣布扩产，特别是...
芯片提速1000倍!中国芯换赛道出发,美媒:无需EUV光刻机了
光子芯片的生产曾面临极紫外光（EUV）光刻机的技术瓶颈，作为一种先进的光刻技术，EUV光刻机被西方国家垄断，成为中国半导体发展的掣肘。可中国企业通过技术创新和路径探索，找到了绕开EUV光刻机的办法，中科鑫通微电子总裁隋军表示，中国有能力在国内生产光子芯片，因为制造过程无需依赖EUV光刻机，这一突破降低了生产...
不需要ASML的EUV光刻机了?外媒:中国已经找到了“野”路子!
令人意外的是日本也送上了神助攻，纳米印压技术已经是杀疯了，这边中国自己搞研发，那边日本佳能突然送来“助攻”，搞了个纳米印压光刻机，价格只要ASML的十分之一，原理跟盖章似的，把电路图案直接“按”在硅片上，5nm芯片随便造！但日本的骚操作也随之来了，佳能居然把第一台设备卖给了印度，中国市场它愣是不...
没有EUV也能造5nm芯片?外媒:中国已经找到了“野”路子!
这厂子总投资150亿美金，听着就豪气，可惜没EUV光刻机，只能靠DUV硬扛。结果呢？他们从14nm起步，良率从30%提到50%，再到2023年，7nm量产了，甚至5nm都开始试水。2024年数据一出，中国在全球5nm芯片市场占了一席之地，老外眼珠子都快瞪出来了。我咋看这事儿？中芯国际这波操作，简直是“螺蛳壳里做道场”，...