上海光机所EUV光刻技术获重大突破,中国芯片生产有望不再被美国...
中国芯片极紫外(EUV)光刻光源技术获得重大突破,使用固体光源突破被美国“卡脖子”的局面。 4月29日消息,据环球时报旗下账号“哇喔·环球新科技”、观察者网等报道,中国科学院上海光学精密机械研究所(简称中国科学院上海光机所)林楠研究员带领团队,绕过二氧化碳激光,使用固体激光器技术成功开发出LPP-EUV光源,已经达到国...
上海光机所EUV光刻技术获重大突破,中国芯片生产有望不再被美国...
中国芯片极紫外(EUV)光刻光源技术获得重大突破,使用固体光源突破被美国“卡脖子”的局面。 4月29日消息,据环球时报旗下账号“哇喔·环球新科技”、观察者网等报道,中国科学院上海光学精密机械研究所(简称中国科学院上海光机所)林楠研究员带领团队,绕过二氧化碳激光,使用固体激光器技术成功开发出LPP-EUV光源,已经达到国...
【上海光机所EUV光刻技术获重大突破 中国芯片生产有望不再被美国...
【上海光机所EUV光刻技术获重大突破 中国芯片生产有望不再被美国“卡脖子”】4月29日消息,据环球时报、观察者网等报道,中国科学院上海光学精密机械研究所林楠研究员带领团队,绕过二氧化碳激光,使用固体激光器技术成功开发出LPP-EUV光源,已经达到国际领先水平,对中国自主开展EUV光刻有重要意义。上述报道称,该技术有望...
好消息!国产EUV光刻机取得重大突破,阿斯麦CEO还在“嘴硬”
当荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）CEO克里斯托夫·富凯断言"中国造EUV光刻机还需很多年"时，中国科学院上海光机所的一篇论文，正悄然撕开西方技术霸权的裂缝。林楠团队的固体激光驱动EUV光源突破，不仅是中国半导体产业的里程碑，更折射出科技博弈的深层逻辑——封锁与反封锁的较量，终究要靠硬核创新破局。一、技术突破背...
中国EUV光刻机关键技术又突破了
我估计光刻机就是下一个盾构机。我们所追求的不仅实现技术的突破，实现国内自给自足，终极目标是凭借着物美价廉的商品出口到全球。当然想要实现这个目标，未来还有很长的路要走。除了EUV光源之外，包括物镜系统在内也是很难突破的一项技术。另外包括高端光刻胶等很多技术也需要继续攻克。按照现有的技术积累，短期内我们...
上海光机所EUV光刻技术获重大突破,中国芯片生产有望不再被美国...
中国芯片极紫外(EUV)光刻光源技术获得重大突破,使用固体光源突破被美国“卡脖子”的局面。 4月29日消息,据环球时报旗下账号“哇喔·环球新科技”、观察者网等报道,中国科学院上海光学精密机械研究所(简称中国科学院上海光机所)林楠研究员带领团队,绕过二氧化碳激光,使用固体激光器技术成功开发出LPP-EUV光源,已经达到国...
上海光机所光刻技术重大突破!催化发酵!张江高科! - 知乎
上海光机所光刻技术重大突破!催化发酵!张江高科! 东财股公子 【上海光机所EUV光刻技术获重大突破 中国芯片生产有望不再被美国“卡脖子”】4月29日消息,据环球时报、观察者网等报道,中国科学院上海光学精密机械研究所林楠研究员带领团队,绕过二氧化碳激光,使用固体激光器技术成功开发出LPP-EUV光源,已经达到国际领先水...
上海光机所EUV光刻技术获重大突破,中国芯片生产有望不再被美国...
中国芯片极紫外(EUV)光刻光源技术获得重大突破,使用固体光源突破被美国 " 卡脖子 " 的局面。 4月 29 日消息,据环球时报旗下账号 " 哇喔 · 环球新科技 "、观察者网等报道,中国科学院上海光学精密机械研究所(简称中国科学院上海光机所)林楠研究员带领团队,绕过二氧化碳激光,使用固体激光器技术成功开发出 LPP-EUV...
关于光刻机!上海光机所EUV技术重大突破 - 知乎
上海光机所EUV技术重大突破 在半导体芯片制造领域,光刻机被称为“工业皇冠上的明珠”。而极紫外光刻(EUV)技术更是其中的核心命门,长期被荷兰阿斯麦公司(ASML)垄断。 最新消息,近期中国极紫外(EUV)光刻光源技术获得重大突破,来自中科院上海光机所的团队,成功开发出LPP-EUV光源,已经达到国际领先水平,这一成果对于我国...
国产EUV光刻机新突破,波长或将缩小至15纳米以下!
日本材料商断供光刻胶，结果中国三天造出替代品，反手让对手库存贬值30%。 哈工大实验室的LDP（激光诱导放电等离子体）光源技术，能量转换效率达到4.5%，比ASML的LPP技术高2.25倍。 该技术2023年9月获国家科技部验收，实验数据表明其波长已压缩至15纳米，相关论文在《中国激光》期刊公开发表。上海光机所的固体激光...
中国EUV技术取得重要突破,阿斯麦CEO还在“嘴硬”?
中国EUV技术取得重要突破，阿斯麦CEO还在“嘴硬”？这事儿可太有意思了——就像你家孩子考试拿了全班第一，隔壁邻居却硬说他是作弊。最近中科院上海光机所的林楠团队把固体激光驱动EUV光源的转换效率干到了3.42%，理论值还能冲到6%，直接让全球半导体圈炸了锅。可荷兰光刻机巨头ASML的CEO富凯还在说“中国造EUV得等...
上海光机所EUV光刻技术获重大突破,中国芯片生产有望不再被美国...
上海光机所EUV光刻技术获重大突破,中国芯片生产有望不再被美国“卡脖子” |财经 金融界 256万粉丝 · 5.0万个视频北京富华创新科技发展有限责任公司官方账号,优质财经领域创作者 关注 接下来播放自动播放 00:18 辽宁辽阳市白塔区一饭店发生火灾,事故已造成22人死亡3人受伤 界面新闻 2.4万次播放 · 72次点赞 04...
中国取得EUV技术重要突破,阿斯麦CEO还在嘴硬…-观察者网
报道称,该研究团队来自中国科学院上海光学精密机械研究所,由该研究所研究员林楠领导,他曾是荷兰光刻机巨头阿斯麦公司(ASML)在光源技术方面的负责人。 论文指出,虽然阿斯麦采用的二氧化碳激光驱动技术优点显著,但林楠团队近期研究发现,固体激光驱动技术历经近十年发展也有许多优势提升,并可能对我国自主开展EUV光刻及其关键器件...
捷报!上海光机所EUV光源研究有突破!⚠️来自林楠团队!林楠是...
捷报!上海光机所EUV光源研究有突破!⚠️来自林楠团队!林楠是2021年回来的“海归派”!当老东西唧唧歪歪传播偏见时,在看不见的地方大量“海归”在干活! ¹ 今天看英文报道才知道,林楠团队创新性地发展了固态激光。² EUV光刻机最核心的分系统是激光等离子体EUV光源,主要挑战之一是提高激光到13.5nm EUV光的能量...
芯片制造新突破?国产EUV传出消息
此前的 光刻机“组装巨头”阿斯麦（ASML）2025年第一财季期间，ASML首席财务官（CFO）戴厚杰（Roger Dassen）也承认了：中国自主EUV光刻机技术，正在突破！当然了，我们也应该清醒地认识到：2025年4月底 上海光机所 研究员 林楠，公布的那项“绕过”“二氧化碳 激光”方案、基于“固体 激光器”开发了LPP-EUV光源...
国产EUV光刻机技术突破 阿斯麦CEO曾称中国还要很多年
4月29日消息,据中国香港南华早报报道,我国研究人员已经建立了一个运行参数具有国际竞争力的EUV光源实验平台,对于我们自主研发半导体的极紫外线光刻机(EUV)及其关键器件与技术意义重大,表明我们有望突破自主生产先进芯片的障碍。 在《中国激光》杂志今年第6期所刊的一篇研究论文,研究来自中国科学院上海光学精密机械研究所...
前ASML首席科学家林楠领导团队突破国产EUV光源技术|林楠|ASML|...
论文显示,研究团队在固态激光驱动的光刻研究中取得了世界一流的成果。 一份研究论文称,中国研究人员通过构建一个以国际竞争参数运行的极紫外 (EUV) 光源平台,突破了国产先进芯片的障碍。 该团队来自中国科学院上海光学精密机械研究所,由曾任荷兰ASML公司光源技术负责人的林楠领导。
重大喜讯!中国光刻机取得重要突破,高端芯片将不再被美国卡脖子
美国越是打压,就越倒逼中国自主创新,如今这句话再次应验,中国EUV光刻机技术取得重大突破,国产高端芯片被美国卡脖子的历史,有望即将翻篇。 近50年来,半导体产业中心发生了数次迁移,从美国到日本,再从日本到韩国,如今,已不可避免的在向中国转移。 那么中国在EUV光刻机领域到底取得了怎样的突破?这对我国来说又有什...
国产EUV光刻机“登月时刻”!中企三大技术路线公布,情况清晰了
FEL路线：上海光源的“未来布局”上海光源团队基于同步辐射加速器，研发出直径28米的小型化自由电子激光装置，可输出功率250W的13.5nm EUV光，为工业级应用奠定基础。当然，这主要是集中在光源系统上的三大技术路线，而在EUV光刻机的其它部件上，我们也在快速破局。三、产业链突破：从“单点开花”到“系统集成”光...